[发明专利]一种光酸化合物、包含其的光刻胶组合物及使用方法

摘要

本发明公开了一种光酸化合物、包含其的光刻胶组合物及使用方法，所述光酸化合物具有稠环芳烃基团，以及接枝在所述稠环芳烃基团上的第一基团‑ORp和第二基团‑R’q。所述光刻胶组合物按照重量百分比包括如下组分：所述光酸化合物1.5％～4wt.％、酚醛树脂2～20wt.％、功能助剂0.1～1.5wt.％、其余为溶剂。所述使用方法包括：(1)将所述光刻胶组合物涂覆在基板上，成膜后，一次烘烤，降温至室温；(2)对降温后的基板按预定图案进行曝光，显影并清洗后进行二次烘烤，得到光刻后的基板。所述光刻胶组合物在全波段光的曝光下，仍能对2μm以下的图像解像清晰，使用方法简便，应用于光刻法制造半导体、液晶面板等。