[发明专利]光刻胶清洗剂及半导体基板上光刻胶的清洗方法在审
| 申请号： | 201811261209.8 | 申请日： | 2018-10-26 |
| 公开（公告）号： | CN111103770A | 公开（公告）日： | 2020-05-05 |
| 发明（设计）人： | 王世哲 | 申请（专利权）人： | 东莞新科技术研究开发有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人： | 郝传鑫 |
| 地址： | 523087 *** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光刻胶清洗剂及半导体基板上光刻胶的清洗方法，其中，公开的所述光刻胶清洗剂，包括有机溶剂及腐蚀抑制剂；所述有机溶剂含有二甲基苯甲醇、聚氧化丙烯三醇及壬基聚氧乙烯醚；所述腐蚀抑制剂含有氨基苯甲酸甲酯和儿茶酚。公开的所述半导体基板上光刻胶的清洗方法为：用所述光刻胶清洗剂清洗半导体基板。本发明能够提高对半导体基板上的光刻胶的清洗效果。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 洗剂 半导体 基板上 清洗 方法 | ||
【主权项】：
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