[发明专利]像素电极的制作方法、显示面板有效
| 申请号： | 201811260212.8 | 申请日： | 2018-10-26 |
| 公开（公告）号： | CN109493734B | 公开（公告）日： | 2020-09-08 |
| 发明（设计）人： | 李迁 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G09F9/30 | 分类号： | G09F9/30 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 黄威 |
| 地址： | 518132 广东省深*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请提出了一种显示面板及制作方法，所述制作方法包括：提供一基板；在所述基板上形成第一无机层；在所述第一无机层上形成第一金属掩模层；利用第一蚀刻工艺，去除所述第一金属掩模层所覆盖的所述第一无机层，使所述第一金属掩模层嵌入所述第一无机层内，使所述第一无机层形成第一无机掩模层；在所述第一无机掩模层上涂布纳米银线溶液，以形成像素电极层。本申请通过利用多晶硅和第一金属层制作形成沟槽，使所述纳米银线能直接进行图案化，得到预定图案，有利于纳米银线规则化的排布，以及降低了纳米银线图案化过程中断裂的风险。 | ||
| 搜索关键词： | 像素 电极 制作方法 显示 面板 | ||
【主权项】：
1.一种像素电极的制作方法，其特征在于，包括：提供一基板；在所述基板上形成第一无机层；在所述第一无机层上形成第一金属掩模层；利用第一蚀刻工艺，去除所述第一金属掩膜层所覆盖的所述第一无机层，使所述第一金属掩模层嵌入所述第一无机层内，使所述第一无机层形成第一无机掩模层；在所述第一无机掩模层上涂布纳米银线溶液，以形成像素电极层。
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