[发明专利]像素电极的制作方法、显示面板

说明书

本申请提出了一种显示面板及制作方法，所述制作方法包括：提供一基板；在所述基板上形成第一无机层；在所述第一无机层上形成第一金属掩模层；利用第一蚀刻工艺，去除所述第一金属掩模层所覆盖的所述第一无机层，使所述第一金属掩模层嵌入所述第一无机层内，使所述第一无机层形成第一无机掩模层；在所述第一无机掩模层上涂布纳米银线溶液，以形成像素电极层。本申请通过利用多晶硅和第一金属层制作形成沟槽，使所述纳米银线能直接进行图案化，得到预定图案，有利于纳米银线规则化的排布，以及降低了纳米银线图案化过程中断裂的风险。

技术领域

本申请涉及显示领域，特别涉及一种像素电极的制作方法、显示面板。

背景技术

柔性显示器由于具有超薄、随意折叠、可弯曲、便于随身携带等优点而广泛应用于手机，可穿戴头盔等不同领域中。柔性显示器巨大的市场潜力，已经成为下一代显示器的主要发展方向。

现有柔性显示器制作的主要难点之一为可弯曲的像素电极。目前广泛使用的ITO电极具有机械强度大，弯曲易断裂等缺点难以应用到柔性显示器中。因此寻找可替代的像素电极至关重要，例如石墨烯、碳纳米管、纳米银线等都可作为替代的电极材料。

其中，纳米银线具有银优良的导电性，同时由于其纳米级别的尺寸效应，使得其具有优异的透光性与耐曲挠性，因此可用作为优选地替代ITO作为触控电极的材料。但是由于自身的特性，使得纳米银线难于进行图案化，形成预定的图案。

因此，目前亟需一种利用银纳米线像素电极的制作方法以解决上述问题。

发明内容

本申请提供一种像素电极的制作方法、显示面板，以解决银纳米线难于图案化的技术问题。

为解决上述问题，本申请提供的技术方案如下：

本申请提出了一种像素电极的制作方法，其包括：

提供一基板；

在所述基板上形成第一无机层；

在所述第一无机层上形成第一金属掩模层；

利用第一蚀刻工艺，去除所述第一金属掩模层所覆盖的所述第一无机层，使所述第一金属掩模层嵌入所述第一无机层内，使所述第一无机层形成第一无机掩模层；

在所述第一无机掩模层上涂布纳米银线溶液，以形成像素电极层。

在本申请的制作方法中，在所述第一无机层上形成第一金属掩模层的步骤包括：

在所述第一无机层上形成第一金属层；

利用第二蚀刻工艺，使所述第一金属层形成第一金属掩模层。

在本申请的制作方法中，所述第二蚀刻工艺为化学蚀刻。

在本申请的制作方法中，所述第一金属层的材料包括金、银中的一种。

在本申请的制作方法中，所述第一金属掩模层位于所述基板与所述像素电极层之间。

在本申请的制作方法中，所述第一无机层的材料包括多晶硅。

在本申请的制作方法中，所述像素电极层的高度不超过所述第一无机掩模的高度。

本申请还提出了一种显示面板，所述显示面板包括基板及位于所述基板上的像素层，其中，所述像素层包括第一无机掩模层、及位于第一无机掩模层内的第一金属掩模层及像素电极层，所述第一金属掩模层位于所述基板与所述像素电极层之间；

所述像素电极层的材料包括纳米银线。

在本申请的显示面板中，所述第一金属掩模层的材料包括金、银中的一种；

在本申请的显示面板中，所述像素电极层的高度不超过所述第一无机掩模的高度。