[发明专利]一种铁电存储器及其制备方法在审
申请号: | 201811259152.8 | 申请日: | 2018-10-26 |
公开(公告)号: | CN109411605A | 公开(公告)日: | 2019-03-01 |
发明(设计)人: | 陈惠鹏;李恩龙;郭太良;巫晓敏;蓝淑琼;杨倩;方圆 | 申请(专利权)人: | 福州大学 |
主分类号: | H01L51/05 | 分类号: | H01L51/05;H01L51/40;H01L27/1159 |
代理公司: | 福州元创专利商标代理有限公司 35100 | 代理人: | 蔡学俊 |
地址: | 350108 福建省福州市闽*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | 本发明涉及一种铁电存储器及其制备方法,所述铁电存储器自上而下由基底、铁电绝缘层、隧穿层、网状源极、源极接触电极、有机半导体层和顶部漏极组成;其网状源极、有机半导体层和顶部漏极层层堆叠在其空间上形成垂直的器件结构,在该结构下晶体管的沟道长度为有机半导体层的厚度(纳米级),超短的沟道长度为器件带来超高的电流密度和快速的响应速度,并且器件的电流方向是从网状源极垂直穿过有机半导体层到达顶部漏极,垂直的电流传输能有效避免由于铁电绝缘层粗糙度较大引起的界面问题提高了铁电存储器的性能;本发明有效提高了器件的驱动能力和响应速度。其在柔性上也有巨大的应用价值,为未来的铁电存储器件的应用提供了参考。 | ||
搜索关键词: | 有机半导体层 铁电存储器 网状源 漏极 铁电绝缘层 垂直的 沟道 制备 铁电存储器件 层层堆叠 垂直穿过 电流传输 电流方向 界面问题 器件结构 驱动能力 应用提供 源极接触 粗糙度 纳米级 隧穿层 电极 响应 晶体管 基底 参考 应用 | ||
【主权项】:
1.一种铁电存储器,其特征在于:所述铁电存储器自上而下由基底、铁电绝缘层、隧穿层、网状源极、源极接触电极、有机半导体层和顶部漏极组成;所述网状源极与有机半导体层和顶部漏极在空间上层层堆叠形成一种垂直的器件结构,所述器件结构的沟道长度为有机半导体层的厚度;所述铁电存储器是通过正负栅压对铁电绝缘层产生的极化方向不同实现对数据的存储。
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H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
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