[发明专利]一种感应耦合等离子体刻蚀设备及刻蚀方法在审
| 申请号： | 201811246568.6 | 申请日： | 2018-10-24 |
| 公开（公告）号： | CN111092008A | 公开（公告）日： | 2020-05-01 |
| 发明（设计）人： | 刘小波;李雪冬;胡冬冬;车东晨;王佳;陈璐;徐康宁;许开东 | 申请（专利权）人： | 江苏鲁汶仪器有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L43/12 |
| 代理公司： | 北京得信知识产权代理有限公司 11511 | 代理人： | 孟海娟;崔建丽 |
| 地址： | 221300 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开一种感应耦合等离子体刻蚀设备及刻蚀方法。该感应耦合等离子体刻蚀设备包括刻蚀腔、激励射频电源、第一偏压射频电源，还包括第二偏压射频电源，第二偏压射频电源的频率明显低于第一偏压射频电源频率。本发明能够通过调节不同频率射频偏压来控制离子能量的分布，从而调节刻蚀的工艺，使得刻蚀的速度和角度更加可控。另外，由于在低气压和低偏压射频频率下，离子的平均自由程比较大，刻蚀的功率利用率比较高，因此，可以以相对低的功率快速刻蚀，实现绿色节能加工。本发明适用于磁性隧道结的刻蚀。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 感应 耦合 等离子体 刻蚀 设备 方法 | ||
【主权项】：
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