[发明专利]阵列基板、该阵列基板的制备方法及显示面板在审

专利信息
申请号: 201811238162.3 申请日: 2018-10-23
公开(公告)号: CN109545823A 公开(公告)日: 2019-03-29
发明(设计)人: 方宏 申请(专利权)人: 武汉华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32;H01L27/12;H01L21/77
代理公司: 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 代理人: 黄威
地址: 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明提供阵列基板、该阵列基板的制备方法及显示面板,本发明的优点在于,在纵向上提升所述金属走线的布线空间,延长金属走线的长度,避免金属走线在弯折拉伸过程中折断,提高所述阵列基板弯折拉伸过程中金属走线的可靠性,提高阵列基板的弯折拉伸性能。
搜索关键词: 阵列基板 金属走线 弯折 拉伸过程 显示面板 制备 布线空间 折断 拉伸
【主权项】:
1.一种阵列基板,包括至少一第一金属走线及位于所述第一金属走线上方的至少一第二金属走线,所述第一金属走线与所述第二金属走线彼此绝缘隔离,其特征在于,所述第一金属走线具有交替排列的多个第一凹部及多个第一凸部,所述第二金属走线具有交替排列的多个第二凹部及多个第二凸部。
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