[发明专利]一种离子注入机

摘要

本发明公开了一种离子注入机，包括离子源、气体箱、萃取系统、离子质量分析器、加速系统、电子淋浴器和硅片放置驱动装置，加速系统和电子淋浴器之间还设置有法拉第检测板；硅片放置驱动装置包括机架，机架上竖直滑动安装有升降台，升降台上固定有竖直设置的固定端盖，升降台上偏摆安装有活动盘体，活动盘体与固定端盖之间密封配合，活动盘体内可拆卸转动安装有公转盘，公转盘上圆周均布有若干个自转盘架，每个自转盘架由自转动力装置驱动，该自转盘架上设置有卡紧装置。该离子注入机更换硅片时对离子束遮挡并实时监控离子束的强度，进行下一次注入时可以以此强度数据为依据来指导硅片放置驱动装置动作，使离子注入更加稳定，效率也更高。

主权项

1.一种离子注入机，包括离子源、为离子源提供待离子化的气体箱、用于将离子从离子源内的等离子体中抽出并加速的萃取系统、设置于萃取系统下游用于精确选择所需的离子并排除不需要的离子质量分析器、位于质量分析器下游的加速系统、设置于加速系统下游的电子淋浴器和设置于电子淋浴器下游的硅片放置驱动装置，其特征在于：所述加速系统和电子淋浴器之间还设置有用于检测离子束入射强度的法拉第检测板，所述法拉第检测板设置于一摆动机构上，所述摆动机构驱动法拉第检测板在阻挡检测工位和避让工位之间切换，在阻挡检测工位处时法拉第检测板与离子束射出方向垂直；在避让工位时法拉第检测板与离子束射出方向平行；所述硅片放置驱动装置包括机架，所述机架上竖直滑动安装有升降台，该升降台由竖直伺服电机驱动竖直升降，所述升降台上固定有竖直设置的固定端盖，该固定端盖上设置有竖直延伸的离子注入窗口和用于抽真空系统连通的真空连接头，该离子注入窗口与电子淋浴器的出射口位置对应；所述升降台上偏摆安装有活动盘体，所述升降台上安装有驱动活动盘体摆动的偏摆动力装置，所述偏摆动力装置驱动活动盘体在水平位置和竖直位置之间偏摆，活动盘体在竖直位置时与固定端盖之间密封配合，所述活动盘体内可拆卸转动安装有公转盘，该公转盘由固定于活动盘体上的公转动力装置驱动，所述公转盘上圆周均布有若干个自转盘架，每个自转盘架均可拆卸转动安装于公转盘上且由自转动力装置驱动，所述自转盘架上设置有用于放置硅片的放置区域，该自转盘架上设置有用于卡紧硅片边缘的卡紧装置，所述离子注入窗口的长度和位置均与硅片的直径适配，所述活动盘体上位自转盘架之间的区域设置有径向延伸的强度检测条孔，该强度检测条孔与注入窗口的长度适配，所述活动盘体的背面在强度检测条孔处设置有用于检测离子束入射强度的法拉第杯。