[发明专利]沉积掩模制造方法在审
| 申请号： | 201811175880.0 | 申请日： | 2018-10-10 |
| 公开（公告）号： | CN109659449A | 公开（公告）日： | 2019-04-19 |
| 发明（设计）人： | 吴泽溢;韩圭完;金元容;明承镐;朴宰奭;亚历山大·沃罗诺夫;全镇弘 | 申请（专利权）人： | 三星显示有限公司 |
| 主分类号： | H01L51/56 | 分类号： | H01L51/56;H01L51/00;C23C14/04 |
| 代理公司： | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 | 代理人： | 王达佐;刘铮 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 公开了制造沉积掩模的方法，所述方法包括分束过程、扫描过程和调整过程，其中，在分束过程中，将从光源照射的激光束分束为多个激光束；在扫描过程中，将多个激光束同时扫描到掩模基板上；在调整过程中，在扫描多个激光束的同时，将多个激光束的照射状态精细地改变成与多个图案孔的形状对应。 | ||
| 搜索关键词： | 激光束 分束 沉积掩模 扫描过程 扫描 光源照射 形状对应 掩模基板 图案孔 制造 照射 精细 | ||
【主权项】：
1.制造沉积掩模的方法，所述方法包括：将掩模基板设置在平台上；以及将激光束照射到所述掩模基板上，以形成多个图案孔，其中，将所述激光束照射到所述掩模基板上包括：从光源照射所述激光束；将所照射的激光束分束成多个激光束；将所述多个激光束同时扫描到所述掩模基板上；以及在扫描所述多个激光束的同时，调整所述多个激光束的照射状态以与所述多个图案孔的形状对应。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星显示有限公司，未经三星显示有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201811175880.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件；专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的；具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射；专门适用于将这些辐射能转换为电能，或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的，如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件；专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的；具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射；专门适用于将这些辐射能转换为电能，或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的，如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择
