[发明专利]蒸镀膜层记录装置及其方法、掩模板组件和蒸镀设备有效

专利信息
申请号: 201811090887.2 申请日: 2018-09-18
公开(公告)号: CN108977764B 公开(公告)日: 2020-06-05
发明(设计)人: 栾梦雨;熊腾青;胡友元;齐忠胜;毛波;熊先江 申请(专利权)人: 合肥鑫晟光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04;C23C14/24;C23C14/54
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 赵伟
地址: 230012 *** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 提供一种蒸镀膜层记录装置及其方法、掩模板组件和蒸镀设备。所述蒸镀膜层记录装置包括:记录掩模板,具有开口部;膜层记录构件,与所述记录掩模板相对设置,在蒸镀期间,蒸镀材料能够通过所述记录掩模板的开口部而被沉积在所述膜层记录构件上;和驱动构件,用于驱动所述记录掩模板与所述膜层记录构件产生相对运动,以改变所述记录掩模板的开口部在所述膜层记录构件上的正投影的位置。
搜索关键词: 镀膜 记录 装置 及其 方法 模板 组件 设备
【主权项】:
1.一种蒸镀膜层记录装置,包括:记录掩模板,具有开口部;膜层记录构件,与所述记录掩模板相对设置,在蒸镀期间,蒸镀材料能够通过所述记录掩模板的开口部而被沉积在所述膜层记录构件上;和驱动构件,用于驱动所述记录掩模板与所述膜层记录构件产生相对运动,以改变所述记录掩模板的开口部在所述膜层记录构件上的正投影的位置。
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