[发明专利]集成电路结构、集成电路布局的配置方法以及静态随机存取记忆体结构

摘要

一集成电路结构包含半导体基材、主动区域、栅电极以及毗连接触。此主动区域朝向第一方向，且具有至少一个齿状部位，此齿状部位在半导体基材中沿着第二方向延伸。此栅电极覆盖在主动区域上，并沿着第二方向延伸。毗连接触具有位于栅电极上方的第一部位及位于主动区域上方的第二部位。毗连接触的第二部位的一部分着陆于齿状部位上。

主权项

1.一种集成电路结构，其特征在于，包含：一半导体基材；一主动区域，朝向一第一方向，且包含至少一个齿状部位，该齿状部位在该半导体基材中沿一第二方向延伸；一栅电极，覆盖在该主动区域上，并沿该第二方向延伸；以及一毗连接触，具有位于该栅电极上方的一第一部位及位于该主动区域上方的一第二部位，其中该毗连接触的该第二部位的一部分着陆于该齿状部位上。