[发明专利]处理液供给装置以及基板处理系统有效
| 申请号： | 201811057063.5 | 申请日： | 2018-09-11 |
| 公开（公告）号： | CN109482381B | 公开（公告）日： | 2022-06-14 |
| 发明（设计）人： | 一野克宪;中岛常长;船越秀朗;松冈伸明;梶原正幸 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | B05B9/04 | 分类号： | B05B9/04;B05B15/40;B05B12/02;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本公开涉及供给异物更少的处理液的处理液供给装置以及基板处理系统。抗蚀液供给装置(200)经由配设了用于去除抗蚀液中的异物的过滤器(206)以及用于送出抗蚀液的泵(207)的供给路径(202)，向涂布喷嘴(142)供给抗蚀液。在作为隔管泵的泵(207)以及过滤器(206)的上游侧配有设开闭阀(205)，在泵(207)以及过滤器(206)的下游侧配设有回吸阀(208)。控制部(U)进行使来自泵(207)的抗蚀液的送出停止的控制，以及进行在通过回吸阀(208)的动作使来自涂布喷嘴(142)的抗蚀液的喷出中断之后、将开闭阀(205)关闭以使所述喷出完全停止的控制。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 供给 装置 以及 系统 | ||
【主权项】：
1.一种处理液供给装置，其经由配设了用于去除处理液中的异物的过滤器以及用于送出处理液的泵的供给路径向处理液喷出部供给处理液，该处理液供给装置的特征在于，在所述供给路径，在所述泵以及所述过滤器的上游侧配设有开闭阀，在所述泵以及所述过滤器的下流侧配设有回吸阀，该处理液供给装置具备控制部，该控制部至少控制所述泵、所述开闭阀以及所述回吸阀，该控制部进行以下控制：使来自所述泵的处理液的送出停止的控制；以及在通过所述回吸阀的动作使来自所述处理液喷出部的处理液的喷出中断之后，通过将所述开闭阀关闭来使所述喷出停止的控制。
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