[发明专利]光学元件制备方法和激光干燥处理系统有效
| 申请号： | 201811044678.4 | 申请日： | 2018-09-07 |
| 公开（公告）号： | CN109262134B | 公开（公告）日： | 2021-08-20 |
| 发明（设计）人： | 欧阳升;惠浩浩;李亚国;许乔;袁志刚;王度;刘志超;耿锋;金会良;王健;张清华 | 申请（专利权）人： | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 |
| 主分类号： | B23K26/00 | 分类号： | B23K26/00;B29C35/08;C03C17/00;C03C17/23;G02B1/10 |
| 代理公司： | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 | 代理人： | 吴开磊 |
| 地址： | 610000 四*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明提供的光学元件制备方法和激光干燥处理系统，涉及激光技术领域。其中，所述光学元件制备方法包括：制备溶胶‑凝胶；提供一熔石英基底，并通过所述溶胶‑凝胶在所述熔石英基底的一表面制作形成一光学膜层；通过激光对所述光学膜层进行干燥处理，以得到包括熔石英基底和光学膜层的熔石英光学元件。通过上述方法，可以进一步提升现有的熔石英光学元件的透光率。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 元件 制备 方法 激光 干燥 处理 系统 | ||
【主权项】：
1.一种光学元件制备方法，其特征在于，包括：制备溶胶‑凝胶；提供一熔石英基底，并通过所述溶胶‑凝胶在所述熔石英基底的一表面制作形成一光学膜层；通过激光对所述光学膜层进行干燥处理，以得到包括熔石英基底和光学膜层的熔石英光学元件。
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