[发明专利]成膜装置有效

专利信息
申请号: 201811029582.0 申请日: 2018-09-05
公开(公告)号: CN109468609B 公开(公告)日: 2021-08-27
发明(设计)人: 小野大祐;神户优 申请(专利权)人: 芝浦机械电子装置株式会社
主分类号: C23C14/56 分类号: C23C14/56;C23C14/34
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 杨贝贝;臧建明
地址: 日本神奈川县横浜市荣区笠间二*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种能够容易且正确地进行屏蔽构件与工件的间隔的设定的成膜装置。本发明具有:腔室(1),能够使内部为真空,并在上部具有能够开闭的盖体(1a);旋转平台(3),设于腔室(1)内,并以圆周的轨迹对工件(W)进行旋转搬运;成膜部(4a~4g),通过溅射而使成膜材料堆积于由旋转平台(3)搬运的工件(W)以进行成膜;屏蔽构件(9),在供工件(W)通过的一侧具有开口(91),形成供利用成膜部(4a~4g)进行成膜的成膜室(S);以及支撑部(P),对屏蔽构件(9)进行支撑,相对于腔室(1)为不动且独立于盖体(1a)。
搜索关键词: 装置
【主权项】:
1.一种成膜装置,其特征在于,具有:腔室,能够使内部为真空,并在上部具有能够开闭的盖体;搬运部,设于所述腔室内,并以圆周的轨迹对工件进行旋转搬运;成膜部,通过溅射而使成膜材料堆积于由所述搬运部搬运的所述工件以进行成膜;屏蔽构件,在供所述工件通过的一侧具有开口,形成供利用所述成膜部进行成膜的成膜室;以及支撑部,对所述屏蔽构件进行支撑,相对于所述腔室为不动且独立于所述盖体。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于芝浦机械电子装置株式会社,未经芝浦机械电子装置株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201811029582.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top