[发明专利]成膜装置有效
申请号: | 201811029582.0 | 申请日: | 2018-09-05 |
公开(公告)号: | CN109468609B | 公开(公告)日: | 2021-08-27 |
发明(设计)人: | 小野大祐;神户优 | 申请(专利权)人: | 芝浦机械电子装置株式会社 |
主分类号: | C23C14/56 | 分类号: | C23C14/56;C23C14/34 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 杨贝贝;臧建明 |
地址: | 日本神奈川县横浜市荣区笠间二*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供一种能够容易且正确地进行屏蔽构件与工件的间隔的设定的成膜装置。本发明具有:腔室(1),能够使内部为真空,并在上部具有能够开闭的盖体(1a);旋转平台(3),设于腔室(1)内,并以圆周的轨迹对工件(W)进行旋转搬运;成膜部(4a~4g),通过溅射而使成膜材料堆积于由旋转平台(3)搬运的工件(W)以进行成膜;屏蔽构件(9),在供工件(W)通过的一侧具有开口(91),形成供利用成膜部(4a~4g)进行成膜的成膜室(S);以及支撑部(P),对屏蔽构件(9)进行支撑,相对于腔室(1)为不动且独立于盖体(1a)。 | ||
搜索关键词: | 装置 | ||
【主权项】:
1.一种成膜装置,其特征在于,具有:腔室,能够使内部为真空,并在上部具有能够开闭的盖体;搬运部,设于所述腔室内,并以圆周的轨迹对工件进行旋转搬运;成膜部,通过溅射而使成膜材料堆积于由所述搬运部搬运的所述工件以进行成膜;屏蔽构件,在供所述工件通过的一侧具有开口,形成供利用所述成膜部进行成膜的成膜室;以及支撑部,对所述屏蔽构件进行支撑,相对于所述腔室为不动且独立于所述盖体。
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