[发明专利]成膜装置有效

专利信息
申请号: 201811029582.0 申请日: 2018-09-05
公开(公告)号: CN109468609B 公开(公告)日: 2021-08-27
发明(设计)人: 小野大祐;神户优 申请(专利权)人: 芝浦机械电子装置株式会社
主分类号: C23C14/56 分类号: C23C14/56;C23C14/34
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 杨贝贝;臧建明
地址: 日本神奈川县横浜市荣区笠间二*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 装置
【权利要求书】:

1.一种成膜装置,其特征在于,具有:

腔室,能够使内部为真空,并在上部具有能够开闭的盖体;

搬运部,设于所述腔室内,具有对工件进行保持的旋转平台与旋转轴,并以所述旋转轴为中心在圆周的轨迹对所述工件进行旋转搬运;

成膜部,通过溅射而使成膜材料堆积于由所述搬运部搬运的所述工件以进行成膜;

屏蔽构件,在供所述工件通过的一侧具有开口,形成供利用所述成膜部进行成膜的成膜室;以及

支撑部,对所述屏蔽构件进行支撑,相对于所述腔室为不动且独立于所述盖体,

所述支撑部具有:

外周支撑部,在所述旋转平台的旋转外周侧对所述屏蔽构件进行支撑;以及

内周支撑部,在所述旋转平台的旋转内周侧对所述屏蔽构件进行支撑,

所述内周支撑部为支撑所述旋转轴且相对于所述腔室为不动的支柱,

通过将所述屏蔽构件支撑在所述外周支撑部与所述内周支撑部之间,在所述屏蔽构件的所述开口的下端与所述旋转平台之间形成有所述旋转平台上的所述工件能够通过的间隔。

2.根据权利要求1所述的成膜装置,其特征在于,所述旋转轴贯穿所述腔室的底部而竖立设置在所述腔室的内部

3.根据权利要求1或2所述的成膜装置,其特征在于,在所述支撑部与所述屏蔽构件之间设有第1防振材。

4.根据权利要求1或2所述的成膜装置,其特征在于,在所述屏蔽构件与所述盖体之间设有第2防振材。

5.根据权利要求1或2所述的成膜装置,其特征在于,在所述屏蔽构件与所述盖体之间设有散热构件。

6.根据权利要求1或2所述的成膜装置,其特征在于,所述屏蔽构件具有:

顶面部,安装于所述盖体;以及

侧面部,与所述顶面部分开而设置。

7.根据权利要求1或2所述的成膜装置,其特征在于,具有:调整构件,拆装自如地设于所述屏蔽构件,对所述屏蔽构件与所述工件之间的间隔进行调整。

8.根据权利要求7所述的成膜装置,其特征在于,所述调整构件通过多个分割构件的组合而构成。

9.根据权利要求1或2所述的成膜装置,其特征在于,具有:修正板,拆装自如地设于所述屏蔽构件,对所形成的膜的膜厚分布进行调整。

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