[发明专利]一种石墨烯基内建电场铟镓砷探测器在审

专利信息
申请号: 201811002938.1 申请日: 2018-08-30
公开(公告)号: CN109273554A 公开(公告)日: 2019-01-25
发明(设计)人: 汤乃云;王倩倩;单亚兵;杜琛;徐浩然 申请(专利权)人: 上海电力学院
主分类号: H01L31/113 分类号: H01L31/113;H01L31/028
代理公司: 上海申汇专利代理有限公司 31001 代理人: 徐颖
地址: 200090 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及一种石墨烯基内建电场铟镓砷探测器,采用磷化铟为衬底材料,依次在衬底上向上生长一层p掺杂的铟镓砷材料层、一层本征铟镓砷材料层、一层n掺杂的铟镓砷材料层、一层氧化硅介质层;在氧化硅介质层中央区域转移或沉积单层石墨烯层,在氧化硅介质层上单层石墨烯层两侧生长源电极和漏电极,在磷化铟衬底下生长背栅电极。单层石墨烯具有超高的电导率与迁移率;另一方面在p‑n结内建电场作用下,光生载流子的漂移运动使得源漏电流大大增加,极大增强了探测器探测能力。
搜索关键词: 氧化硅介质 铟镓砷材料 内建电场 铟镓砷探测器 单层石墨烯 石墨烯基 磷化铟 电导率 光生载流子 背栅电极 沉积单层 衬底材料 漂移运动 石墨烯层 向上生长 源漏电流 中央区域 电极 漏电极 迁移率 生长源 探测器 本征 衬底 探测 生长
【主权项】:
1.一种石墨烯基内建电场铟镓砷探测器,其特征在于,采用磷化铟为衬底材料,依次在衬底上向上生长一层p掺杂的铟镓砷材料层、一层本征铟镓砷材料层、一层n掺杂的铟镓砷材料层、一层氧化硅介质层;在氧化硅介质层中央区域转移或沉积单层石墨烯层,在氧化硅介质层上单层石墨烯层两侧生长源电极和漏电极,在磷化铟衬底下生长背栅电极。
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