[发明专利]一种石墨烯基内建电场铟镓砷探测器在审
申请号: | 201811002938.1 | 申请日: | 2018-08-30 |
公开(公告)号: | CN109273554A | 公开(公告)日: | 2019-01-25 |
发明(设计)人: | 汤乃云;王倩倩;单亚兵;杜琛;徐浩然 | 申请(专利权)人: | 上海电力学院 |
主分类号: | H01L31/113 | 分类号: | H01L31/113;H01L31/028 |
代理公司: | 上海申汇专利代理有限公司 31001 | 代理人: | 徐颖 |
地址: | 200090 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明涉及一种石墨烯基内建电场铟镓砷探测器,采用磷化铟为衬底材料,依次在衬底上向上生长一层p掺杂的铟镓砷材料层、一层本征铟镓砷材料层、一层n掺杂的铟镓砷材料层、一层氧化硅介质层;在氧化硅介质层中央区域转移或沉积单层石墨烯层,在氧化硅介质层上单层石墨烯层两侧生长源电极和漏电极,在磷化铟衬底下生长背栅电极。单层石墨烯具有超高的电导率与迁移率;另一方面在p‑n结内建电场作用下,光生载流子的漂移运动使得源漏电流大大增加,极大增强了探测器探测能力。 | ||
搜索关键词: | 氧化硅介质 铟镓砷材料 内建电场 铟镓砷探测器 单层石墨烯 石墨烯基 磷化铟 电导率 光生载流子 背栅电极 沉积单层 衬底材料 漂移运动 石墨烯层 向上生长 源漏电流 中央区域 电极 漏电极 迁移率 生长源 探测器 本征 衬底 探测 生长 | ||
【主权项】:
1.一种石墨烯基内建电场铟镓砷探测器,其特征在于,采用磷化铟为衬底材料,依次在衬底上向上生长一层p掺杂的铟镓砷材料层、一层本征铟镓砷材料层、一层n掺杂的铟镓砷材料层、一层氧化硅介质层;在氧化硅介质层中央区域转移或沉积单层石墨烯层,在氧化硅介质层上单层石墨烯层两侧生长源电极和漏电极,在磷化铟衬底下生长背栅电极。
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H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
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H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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