[发明专利]一种高频渐进声阻抗匹配层的制备方法有效
| 申请号： | 201810907838.7 | 申请日： | 2018-08-09 |
| 公开（公告）号： | CN109246575B | 公开（公告）日： | 2020-10-16 |
| 发明（设计）人： | 吴大伟;王黎;陈磊 | 申请（专利权）人： | 广州联声电子科技有限公司 |
| 主分类号： | H04R31/00 | 分类号： | H04R31/00;G03F7/00 |
| 代理公司： | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人： | 颜希文;麦小婵 |
| 地址： | 510000 广东省广州市广州*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种高频渐进声阻抗匹配层的制备方法，包括如下步骤：S1：使用互补结构的掩膜板，采用双面倾斜曝光法，通过光刻机精确对准曝光，得到光刻胶渐进结构；S2：在所述光刻胶渐进结构中填充匹配材料，形成渐进声阻抗匹配层。本发明公开的高频渐进声阻抗匹配层的制备方法，其实现了微米尺寸精度的声学匹配材料，可用于高频超声期间的声学匹配，且制备精度高。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 高频 渐进 声阻抗 匹配 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种高频渐进声阻抗匹配层的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：S1：使用互补结构的掩膜板，采用双面倾斜曝光法，通过光刻机精确对准曝光，得到光刻胶渐进结构；S2：在所述光刻胶渐进结构中填充匹配材料，形成渐进声阻抗匹配层。
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