[发明专利]一种镭射转移膜的制作方法

摘要

本发明提供一种镭射转移膜的制作方法，通过在基膜上制作离型层、镭射层、颜色层，压印镭射图案，真空镀铝制作铝层，通过水洗工艺和碱洗工艺相结合在颜色层洗出颜色图案，在铝层洗出精细图案，能够实现样式复杂多变的镭射图案，具有非常高的防伪效果。

主权项

1.一种镭射转移膜的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：S1：在基膜上涂布离型树脂，制作离型层：通过涂布机在基膜上涂布离型树脂，并以60m/min通过5段、每段长5米的离型层烤箱进行烘烤，每段所述离型层烤箱的温度依次为120℃±3℃、130℃±3℃、150℃±3℃、150℃±3℃以及120℃±3℃。S2：在所述离型层上涂布镭射层：在离型层上涂布镭射树脂，并以60m/min的速度通过5段、每段长5米的镭射层烘箱进行烘烤，每段所述镭射层烤箱的温度依次为120℃±3℃、140℃±3℃、165℃±3℃、165℃±3℃以及130℃±3℃。S3：在所述镭射层上印刷颜色层；S4：在所述镭射层上模压镭射图案；用设有深浅纹路图案的辊在镭射层上高温辊印，温度为165摄氏度‑185摄氏度。S5：在所述颜色层上真空镀铝，制作铝层；S6：水洗清洗颜色层，在颜色层上洗出带有颜色的图案；S7：碱水清洗多余铝层，在铝层上制作铝层图案；S8：涂布胶层和分切。