[发明专利]一种镭射转移膜的制作方法

说明书

本发明提供一种镭射转移膜的制作方法，通过在基膜上制作离型层、镭射层、颜色层，压印镭射图案，真空镀铝制作铝层，通过水洗工艺和碱洗工艺相结合在颜色层洗出颜色图案，在铝层洗出精细图案，能够实现样式复杂多变的镭射图案，具有非常高的防伪效果。

技术领域

本发明涉及镭射转移膜的制作方法，具体地，涉及一种水洗碱洗相结合的镭射转移膜的制作方法。

背景技术

在常用的镭射转移膜制作方法中，通常会只用碱洗或者只用水洗的步骤这样制作出来的镭射图案样式十分单一，容易被仿制，防伪效果较差。

发明内容

本发明为解决上述镭射图案样式单一，容易被仿制，防伪效果差的技术为题，提供一种镭射转移膜的制作方法。

为实现上述技术效果，本发明采用如下技术方案：

一种镭射转移膜的制作方法，包括以下步骤：

S1：在基膜上涂布离型树脂，制作离型层：通过涂布机在基膜上涂布离型树脂，并以60m/min通过5段、每段长5米的离型层烤箱进行烘烤，每段所述离型层烤箱的温度依次为120℃±3℃、130℃±3℃、150℃±3℃、150℃±3℃以及120℃±3℃；

S2：在所述离型层上涂布镭射层：在离型层上涂布镭射树脂，并以60m/min的速度通过5段、每段长5米的镭射层烘箱进行烘烤，每段所述镭射层烤箱的温度依次为120℃±3℃、140℃±3℃、165℃±3℃、165℃±3℃以及130℃±3℃。S3：在所述镭射层上印刷颜色层；

S4：在所述镭射层上模压镭射图案；用设有深浅纹路图案的辊在镭射层上高温辊印，温度为165摄氏度-185摄氏度；

S5：在所述颜色层上真空镀铝，制作铝层；

S6：水洗清洗未被所述铝层覆盖的颜色层；

S7：通过凹印头印刷出耐碱保护层，对所述镭射图案对应的铝层区域进行耐碱保护，碱水清洗多余铝层，形成铝层图案；

S8：涂布胶层和分切。

更优地，所述的步骤S6和S7可以互换。

更优地，所述的离型层由质量配比是固体树脂：乙酯：丁酯：PM为7：52：25：16的材料组成；所述的固体树脂由质量配比是丙烯酸树脂：纤维素为9：1的材料组成。

更优地，所述的镭射层由质量配比是羟基丙烯酸树脂：三元氯醋：氨基树脂：乙酯：丁酯：正丁醇为8.8：11.2：5：45：18：12的材料组成。

更优地，所述的颜色层由质量配比是丙烯酸酯聚合物：水：酒精：氨水：乙二胺：氢氧化钠：耐温助剂为16：3.5：1：0.12：0.025：0.02：0.5的材料组成。

更优地，所述步骤S6包括以下步骤：，

S61：将所述镭射转移膜传送至水洗槽用清水清洗未被所述铝层覆盖的颜色层；

S62：用挤水辊挤除所述镭射转移膜的水分；

S63：将所述镭射转移膜传送至温度为110摄氏度的烤箱中烘干水分。

更优地，所述步骤S7包括以下步骤：

S71：将所述镭射转移膜用凹印头进行耐碱保护层的印刷并烘干；

S72：将所述镭射转移膜传送至氢氧化钠浓度为30千克/立方米的碱水槽通过化学反应2Al+2NaOH+2H₂O＝2NaAlO₂+3H₂去除未受保护的镀铝层；

S73：用挤水辊挤除所述镭射转移膜的水分，将所述镭射转移膜传送至温度为110摄氏度的烤箱中烘干水分。