[发明专利]一种晶界原位扩散纳米级扩散物的钕铁硼磁体及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201810898536.8 申请日: 2018-08-08
公开(公告)号: CN109087767A 公开(公告)日: 2018-12-25
发明(设计)人: 赵利忠;刘先国;李领伟 申请(专利权)人: 杭州电子科技大学
主分类号: H01F1/057 分类号: H01F1/057;H01F41/02
代理公司: 杭州杭诚专利事务所有限公司 33109 代理人: 尉伟敏
地址: 310018 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明涉及钕铁硼磁体领域,尤其涉及一种晶界原位扩散纳米级扩散物的钕铁硼磁体及其制备方法,所述磁体在钕铁硼磁体的晶界处掺杂有纳米级的扩散物,纳米级扩散物为纳米RE100‑xMx粉体,其中RE为稀土元素,M为金属元素,成分比例100‑x:x为原子比,扩散物的晶粒尺寸为10~100nm,扩散物在晶界处掺杂并原位扩散。整体磁体具有更加优秀的磁性能。并且在掺杂和原位扩散的作用下,能够对磁体的耐热性能、机械性能以及耐化学性能形成多方面的强化。
搜索关键词: 扩散物 钕铁硼磁体 原位扩散 纳米级 掺杂 晶界 种晶 制备 机械性能 耐化学性能 金属元素 耐热性能 稀土元素 整体磁体 晶粒 磁性能 原子比 粉体
【主权项】:
1.一种晶界原位扩散纳米级扩散物的钕铁硼磁体,其特征在于,所述磁体在钕铁硼磁体的晶界处掺杂有纳米级的扩散物,纳米级扩散物为纳米RE100‑xMx粉体,其中RE为稀土元素,M为金属元素,成分比例100‑x:x为原子比,扩散物的晶粒尺寸为10~100nm,扩散物在晶界处掺杂并原位扩散。
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