[发明专利]一种功率器件保护芯片及其制作方法有效
申请号: | 201810895430.2 | 申请日: | 2018-08-08 |
公开(公告)号: | CN109103179B | 公开(公告)日: | 2021-04-23 |
发明(设计)人: | 不公告发明人 | 申请(专利权)人: | 深圳市源新科技有限公司 |
主分类号: | H01L27/02 | 分类号: | H01L27/02 |
代理公司: | 北京艾皮专利代理有限公司 11777 | 代理人: | 杨克 |
地址: | 518000 广东省深圳市南山*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明提供一种功率器件保护芯片及其制作方法,包括:提供第一导电类型的衬底;在所述衬底上表面生长第二导电类型的第一外延层;在所述第一外延层上表面形成第一导电类型的第二外延层;形成贯穿所述第二外延层并延伸至所述第一外延层的第一沟槽;在所述第一沟槽内交替形成第二导电类型的第三外延层以及第四导电类型的第四外延层;在所述第一沟槽的侧壁形成第一介质层;形成贯穿所述衬底和所述第一外延层并与所述第一沟槽连接的第二沟槽;在所述第二沟槽内形成多晶硅层;在所述第二外延层上表面形成第一电极;在所述衬底的下表面形成第二电极,从而降低了工艺难度,提高了功率器件保护芯片的性能。 | ||
搜索关键词: | 一种 功率 器件 保护 芯片 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
1.一种功率器件保护芯片,其特征在于,包括:第一导电类型的衬底;第二导电类型的第一外延层,生长于所述衬底上表面;第一导电类型的第二外延层,形成于所述第一外延层上表面;第一沟槽,贯穿所述第二外延层并延伸至所述第一外延层;交替形成于所述第一沟槽内的第二导电类型的第三外延层以及第一导电类型的第四外延层,所述第三外延层至少为两个且所述第一沟槽底部的外延层为第三外延层;第一介质层,形成于所述第一沟槽侧壁;第二沟槽,贯穿所述衬底以及所述第一外延层并与所述第一沟槽连接;多晶硅层,形成于所述第二沟槽内且一端与所述第三外延层连接;第一电极,形成于所述第二外延层的上表面;第二电极,形成于所述衬底的下表面并分别与所述衬底和所述多晶硅层连接。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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