[发明专利]一种原子层沉积设备及方法

摘要

本发明公开了一种原子层沉积设备及方法。该设备包括反应腔室、溶剂冲刷系统以及多个前驱体传输系统，其中，每个前驱体传输系统均包括前驱体传输管路和与前驱体传输管路可通断性连接的前驱体源瓶，多条前驱体传输管路共同汇入反应腔室；溶剂冲刷系统包括溶剂传输管路和与溶剂传输管路可通断性连接的溶剂源瓶，溶剂传输管路与至少一条前驱体传输管路选择性连通，以向前驱体传输管路和/或反应腔室通入吹扫溶剂进行吹扫。本发明能够减少腔室内的非预期反应物沉积，提高薄膜纯度，改善沉积薄膜的质量；能够改善薄膜厚度均匀性，提高片间薄膜性能的重复性；并且能够降低腔室内壁的颗粒物附着，从而提高沉积薄膜的纯度。

主权项

1.一种原子层沉积设备，其特征在于，包括反应腔室、溶剂冲刷系统以及多个前驱体传输系统，其中，/n每个所述前驱体传输系统均包括前驱体传输管路和与所述前驱体传输管路可通断性连接的前驱体源瓶，多条所述前驱体传输管路共同汇入所述反应腔室；/n所述溶剂冲刷系统包括溶剂传输管路和与所述溶剂传输管路可通断性连接的溶剂源瓶，所述溶剂传输管路与至少一条所述前驱体传输管路选择性连通，以向所述前驱体传输管路和/或所述反应腔室通入吹扫溶剂进行吹扫。/n