[发明专利]导电性基板、电子装置以及显示装置的制造方法有效
申请号: | 201810838133.4 | 申请日: | 2018-07-26 |
公开(公告)号: | CN109309012B | 公开(公告)日: | 2022-07-12 |
发明(设计)人: | 大德高志;谷口晋;关映子;佐藤淳;堀川雄平;折笠诚;阿部寿之 | 申请(专利权)人: | TDK株式会社 |
主分类号: | H01L21/48 | 分类号: | H01L21/48;H01L21/60;H01L33/48;H01L33/62 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 杨琦;黄浩 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及导电性基板、电子装置以及显示装置的制造方法,导电性基板的制造方法是制造具有基材以及被设置于基材的一个主面侧的导电图形的导电性基板的方法。该方法具备由压印法来形成具有基底层露出的底面和包含沟槽形成层表面的侧面的沟槽的工序、从露出于沟槽底面的基底层使金属镀敷生长并由此而形成导电图形层的工序。 | ||
搜索关键词: | 导电性 电子 装置 以及 显示装置 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种制造导电性基板的方法,其特征在于,所述导电性基板具有基材以及被设置于所述基材的一个主面侧的导电图形层,所述方法包括:由包含将具有凸部的模具压入到在形成于所述基材上的基底层上形成的沟槽形成层的处理的压印法,来形成具有所述基底层露出的底面和包含所述沟槽形成层的表面的侧面的沟槽的工序,其中所述基底层包含催化剂;以及从露出于所述沟槽的底面的所述基底层使金属镀敷生长并由此形成包含所述金属镀敷并且填充所述沟槽的所述导电图形层的工序。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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