[发明专利]有机膜形成用组合物、图案形成方法及有机膜形成用树脂

摘要

本发明提供一种成为具有高度的嵌入/平坦化特性、蚀刻耐性的有机膜形成用组合物的材料的树脂、该组合物、及使用该组合物的图案形成方法。所述有机膜形成用组合物含有：(I)树脂，其在重复单元的至少一部分包含下述通式(1)所示的、包含芳香环的环结构AR与同四个所述AR键合的螺结构SP交替重复的结构；以及(II)有机溶剂。[化学式1]

主权项

1.一种有机膜形成用组合物，其特征在于，含有：(I)树脂，其在重复单元的至少一部分包含下述通式(1)所示的、包含芳香环的环结构AR与同四个所述AR键合的螺结构SP交替重复的结构；以及(II)有机溶剂，[化学式1]上述通式(1)中，SP为下述式(1‑1)所示的螺结构，AR为下述式(1‑2)、(1‑3)、(1‑4)、(1‑5)、(1‑6)或(1‑7)所示的、包含芳香环的环结构，S1为0～3的整数，S2、S3、S4、S5各自独立地为0～4的整数，S1+S2+S3+S4+S5＝4；此处，虚线表示所述SP的环结构与所述AR的芳香环共有一边并键合，＊表示所述AR的芳香环与相邻重复单元的螺结构的环结构共有一边并键合，[化学式2]上述式(1‑1)中，X为羟基、碳原子数为1～10的烷氧基、酰氧基、烷基磺酸氧基、或芳基磺酸氧基，各基团的氢原子可以被氟原子、氯原子、溴原子、碘原子、烷氧基、酰基、或酰氧基取代；虚线表示上述式(1‑1)的环结构与上述通式(1)中的AR的芳香环共有一边并键合；另外，所述AR仅与螺结构的、相邻的边不被其他AR的芳香环共有且不具有所述X或螺键的边键合，[化学式3]上述式(1‑2)中，R可以全部相同或不同，其为碳原子数为1～20的饱和或不饱和的一价烃基，Q为‑O‑、‑CO‑、‑(CO)‑O‑、或‑O‑(CO)‑，q为0或1，R11为0～4的整数，S11为1～3的整数，2≤R11+2×S11≤6；虚线表示上述式(1‑2)的芳香环与所述螺结构的环结构共有一边并键合；另外，所述螺结构仅与上述式(1‑2)的芳香环的、相邻的边不被其他螺结构的环结构共有的边键合，[化学式4]上述式(1‑3)中，R、Q、q与上述式(1‑2)中的R、Q、q相同，R21为0～4的整数，R22为0～4的整数，S21为0～2的整数，S22为0～2的整数，1≤S21+S22≤4、2≤R21+R22+2×(S21+S22)≤8；虚线表示上述式(1‑3)的芳香环与所述螺结构的环结构共有一边并键合；另外，所述螺结构仅与上述式(1‑3)的芳香环的、相邻的边不被其他螺结构的环结构共有的边键合，[化学式5]上述式(1‑4)中，R、Q、q与上述式(1‑2)中的R、Q、q相同，R31为0～4的整数，R32为0～4的整数，R33为0～2的整数，S31为0～2的整数，S32为0～2的整数，1≤S31+S32≤4、2≤R31+R32+R33+2×(S31+S32)≤10；虚线表示上述式(1‑4)的芳香环与所述螺结构的环结构共有一边并键合；另外，所述螺结构仅与上述式(1‑4)的芳香环的、相邻的边不被其他螺结构的环结构共有的边键合，[化学式6]上述式(1‑5)中，R、Q、q与上述式(1‑2)中的R、Q、q相同，R41为0～4的整数，R42为0～2的整数，R43为0～4的整数，S41为0～2的整数，S42为0或1的整数，S43为0～2的整数，1≤S41+S42+S43≤5、2≤R41+R42+R43+2×(S41+S42+S43)≤10；虚线表示上述式(1‑5)的芳香环与所述螺结构的环结构共有一边并键合；另外，所述螺结构仅与上述式(1‑5)的芳香环的、相邻的边不被其他螺结构的环结构共有的边键合，[化学式7]上述式(1‑6)中，R、Q、q与上述式(1‑2)中的R、Q、q相同，R51为0～3的整数，R52为0～3的整数，R53为0～3的整数，S51为0或1的整数，S52为0或1的整数，S53为0或1的整数，1≤S51+S52+S53≤3、2≤R51+R52+R53+2×(S51+S52+S53)≤9；虚线表示上述式(1‑6)的芳香环与所述螺结构的环结构共有一边并键合；另外，所述螺结构仅与上述式(1‑6)的芳香环的、相邻的边不被其他螺结构的环结构共有的边键合，[化学式8]上述式(1‑7)中，R、Q、q与上述式(1‑2)中的R、Q、q相同，R61为0～3的整数，R62为0或1的整数，R63为0～3的整数，R64为0～2的整数，S61为0或1的整数，S62为0或1的整数，S63为0或1的整数，S64为0或1的整数，1≤S61+S62+S63+S64≤4、2≤R61+R62+R63+R64+2×(S61+S62+S63+S64)≤10；虚线表示上述式(1‑7)的芳香环与所述螺结构的环结构共有一边并键合；另外，所述螺结构仅与上述式(1‑7)的芳香环的、相邻的边不被其他螺结构的环结构共有的边键合。