[发明专利]一种针对酸性气体、粉尘颗粒的废气的后端净化装置在审
| 申请号： | 201810792667.8 | 申请日： | 2018-07-18 |
| 公开（公告）号： | CN108619879A | 公开（公告）日： | 2018-10-09 |
| 发明（设计）人： | 杨春水;曹小康;赵力行;邹昭平;蒋俊海;于浩 | 申请（专利权）人： | 安徽京仪自动化装备技术有限公司 |
| 主分类号： | B01D53/75 | 分类号： | B01D53/75;B01D53/86;B01D53/44;B01D50/00;B01D47/06 |
| 代理公司： | 芜湖思诚知识产权代理有限公司 34138 | 代理人： | 郑直 |
| 地址： | 241000 安徽省芜湖*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种针对酸性气体、粉尘颗粒的废气的后端净化装置，涉及半导体制造过程中制成工艺气体处理设备的技术领域，包括反应腔、后端水洗室、冷却塔和废水净水箱，废气进入前端净化装置后，在去除了废气中的酸性气体和粉尘颗粒后，剩下的废气进入反应室中反应，将废气中的有机物反应掉，接着，反应后的高温气体再经过后端水洗室和冷却塔的水洗喷淋和冷却降温，在达到排放标准后从出气口排出，而反应后产生的粉尘颗粒遇到水后掉落到后端水洗室的底部并顺着水流冲洗到废水净水箱中，再通过废水净水箱的过滤净化循环利用，整个装置结构合理，实用性强。 | ||
| 搜索关键词： | 废气 粉尘颗粒 净化装置 酸性气体 净水箱 水洗室 冷却塔 废水 半导体制造过程 有机物反应 处理设备 高温气体 工艺气体 过滤净化 冷却降温 排放标准 水流冲洗 水洗喷淋 循环利用 装置结构 出气口 反应腔 反应室 掉落 排出 | ||
【主权项】：
1.一种针对酸性气体、粉尘颗粒的废气的后端净化装置，其特征在于：包括反应腔(1)、后端水洗室(3)、冷却塔(6)和废水净水箱(5)，所述反应室(1)包括反应腔(101)、主进气法兰(102)、辅进气法兰(103)和辅进料法兰(104)、出气法兰(105)，所述主进气法兰(102)和辅进气法兰(103)分别焊接在反应腔(101)的顶部中间和顶部两边，所述辅进料法兰(104)焊接在反应腔(101)的中部，所述出气法兰(105)焊接在反应腔(101)的底部并通过连接管道一(2)和后端水洗室(3)相连；所述后端水洗室(3)包括后端水洗腔(301)和喷头法兰一(302)，所述喷头法兰一(302)对称设于后端水洗腔(301)的两侧并内设有喷头一(303)，所述后端水洗腔(301)的顶部左侧设有进气端并和连接管道二(2)相连，顶部右边设有出气端并和冷却塔(6)相连，所述后端水洗腔(301)的底部设有排水法兰(304)并通过连接管道二(4)和废水净水箱(5)连接；所述冷却塔(6)的内部均布设有冷却板(601)，所述冷却塔(6)的外部中间和上部分别焊接有喷水法兰二(602)和喷水法兰三(604)，所述喷水法兰二(602)和喷水法兰三(604)内设有喷头二(603)和喷头三(605)，所述冷却塔(6)的顶部水平设有出气口(607)。
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