[发明专利]存储元件及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201810783607.X 申请日: 2018-07-17
公开(公告)号: CN110729305A 公开(公告)日: 2020-01-24
发明(设计)人: 廖廷丰 申请(专利权)人: 旺宏电子股份有限公司
主分类号: H01L27/11573 分类号: H01L27/11573;H01L27/11578;H01L23/48
代理公司: 11021 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 李佳
地址: 中国台湾新竹*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种存储元件及其制造方法。存储元件包括基底、第一电路结构、多个第一导电柱、第二电路结构以及多个第二导电柱。第一电路结构设置于基底上。多个第一导电柱设置于第一电路结构中且沿第一方向排列,多个第一导电柱自第一电路结构的上层延伸至基底。第二电路结构设置于第一电路结构上。多个第二导电柱设置于第二电路结构中且沿第一方向排列,多个第二导电柱自第二电路结构的上层延伸至第一电路结构,且每一多个第二导电柱分别电性连接至每一多个第一导电柱。
搜索关键词: 电路结构 导电柱 基底 存储元件 方向排列 上层 电性连接 延伸 制造
【主权项】:
1.一种存储元件,包括:/n基底;/n第一电路结构,设置于所述基底上;/n多个第一导电柱,设置于所述第一电路结构中且沿第一方向排列,其中所述多个第一导电柱自所述第一电路结构的上层延伸至所述基底;/n第二电路结构,设置于所述第一电路结构上;以及/n多个第二导电柱,设置于所述第二电路结构中且沿所述第一方向排列,其中所述多个第二导电柱自所述第二电路结构的上层延伸至所述第一电路结构,且每一所述多个第二导电柱分别电性连接至每一所述多个第一导电柱。/n
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