[发明专利]可变电阻存储器装置及其形成方法有效

专利信息
申请号: 201810768492.7 申请日: 2018-07-13
公开(公告)号: CN109256406B 公开(公告)日: 2023-06-20
发明(设计)人: 金成元;殷圣豪;朴日穆;朴正勋;宋苏智;郑智贤 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H10B63/00 分类号: H10B63/00;H10N70/00
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 赵南;张青
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 提供了各种可变电阻存储器装置和制造可变电阻存储器装置的方法。可变电阻存储器装置可以包括:衬底,其包括单元区域和外围区域;第一导电线,其位于衬底上;第二导电线,其穿过第一导电线;可变电阻结构,其位于第一导电线和第二导电线的交叉点处;以及底电极,其位于第一导电线和可变电阻结构之间。单元区域可以包括与外围区域接触的边界区域,并且第一导电线之一与可变电阻结构中的位于边界区域且与所述第一导电线之一重叠的一个可变电阻结构电绝缘。
搜索关键词: 可变 电阻 存储器 装置 及其 形成 方法
【主权项】:
1.一种可变电阻存储器装置,包括:衬底,其包括单元区域和外围区域,所述单元区域包括与所述外围区域接触的边界区域;多条第一导电线,其在所述衬底上在第一方向上延伸;多条第二导电线,其在第二方向上延伸并且穿过所述多条第一导电线;多个可变电阻结构,所述多个可变电阻结构中的每一个位于所述多条第一导电线和所述多条第二导电线的多个交叉点中的一个交叉点处;和位于所述多条第一导电线和所述多个可变电阻结构之间的多个底电极,其中,所述多条第一导电线中的一条第一导电线与所述多个可变电阻结构中的位于所述边界区域并且与所述多条第一导电线中的所述一条第一导电线重叠的一个可变电阻结构电绝缘。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星电子株式会社,未经三星电子株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810768492.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

同类专利
专利分类
×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top