[发明专利]一种含氟清洗液在审
| 申请号： | 201810717794.1 | 申请日： | 2018-07-03 |
| 公开（公告）号： | CN110669597A | 公开（公告）日： | 2020-01-10 |
| 发明（设计）人： | 何春阳;赵鹏;刘兵 | 申请（专利权）人： | 安集微电子科技(上海)股份有限公司 |
| 主分类号： | C11D7/08 | 分类号： | C11D7/08;C11D7/26;C11D7/32;C11D7/34;C11D7/60 |
| 代理公司： | 11352 北京大成律师事务所 | 代理人： | 李佳铭;王芳 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新区华东路*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种含氟清洗液，其含有：氟化物、有机胺、水、肼及其衍生物、唑类腐蚀抑制剂，还可以含有有机溶剂。本发明的清洗液清洗能力强，可有效去除半导体制程过程中等离子刻蚀残留物，并且在高转速单片机清洗中对非金属材料(如氮氧化硅和低介质材料)和金属材料(如Cu)等有较小的腐蚀速率，有效的解决了传统氮唑类腐蚀抑制剂控制金属表面腐蚀的吸附问题，而且可以有效地降低了清洗液的成本，适用于批量浸泡式、批量旋转喷雾式清洗方式，尤其适用于高转速单片旋转式的清洗方式，具有较大操作窗口，在半导体晶片清洗等微电子领域具有良好的应用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 清洗 腐蚀抑制剂 高转速 清洗液 等离子刻蚀残留物 半导体晶片清洗 金属表面腐蚀 半导体制程 单片旋转式 低介质材料 非金属材料 含氟清洗液 微电子领域 金属材料 操作窗口 氮氧化硅 清洗能力 旋转喷雾 有机溶剂 单片机 氟化物 浸泡式 有机胺 有效地 氮唑 去除 吸附 唑类 腐蚀 应用 | ||
【主权项】：
1.一种含氟清洗液，其特征在于，按照质量百分比浓度所述含氟清洗液包括以下组分：/n
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