[发明专利]一种应用于磁控溅射的新型工件转架装置

摘要

本发明涉及一种用于磁控溅射的转架装置，包括由侧壁、顶板和底板组成的反应腔体，设置在反应腔体内的工作托盘、主轴和工作托盘运动机构，其特征在于在所述的反应腔体内设有基台，其基台将反应腔体分成上腔体和下腔体，所述的工作托盘设置在主轴上，所述的工作托盘运动机构包括自转机构和公转机构。本发明的有益效果是：本发明克服了传统工件转架旋转方式单一的缺点，增加了工件运动的自由度，使工件的每个面都可以被靶材溅射出的粒子均匀覆盖，有效解决了工件棱边涂层不均的问题，增强了涂层效果。

主权项

1.一种用于磁控溅射的转架装置，包括由侧壁、顶板和底板组成的反应腔体，设置在反应腔体内的工作托盘、主轴和工作托盘运动机构，其特征在于在所述的反应腔体内设有基台，其基台将反应腔体分成上腔体和下腔体，所述的工作托盘设置在主轴上，所述的工作托盘运动机构包括自转机构和公转机构，所述的自转机构由设置在下腔体内的电机Ⅰ，设置在上腔体内下部的与电机Ⅰ输出轴连接的连接轴Ⅰ和与连接轴Ⅰ连接的十字万向节Ⅰ所组成；所述的公转机构由设置在顶板上部的电机Ⅱ，设置在上腔体内上部与电机Ⅱ输出轴转动连接的连接轴Ⅱ，与连接轴Ⅱ转动连接的角度调节杆连接，与角度调节杆连接的连接杆，与连接杆连接的连接轴Ⅲ以及与连接轴Ⅲ连接的十字万向节Ⅱ所组成；所述的主轴的两端设有花键槽，主轴的花键槽一端通过十字万向节Ⅰ与自转机构连接，另一端通过十字万向节Ⅱ与公转机构连接。