[发明专利]一种应用于磁控溅射的新型工件转架装置

权利要求书

1.一种用于磁控溅射的转架装置，包括由侧壁、顶板和底板组成的反应腔体，设置在反应腔体内的工作托盘、主轴和工作托盘运动机构，其特征在于在所述的反应腔体内设有基台，其基台将反应腔体分成上腔体和下腔体，所述的工作托盘设置在主轴上，所述的工作托盘运动机构包括自转机构和公转机构，

所述的自转机构由设置在下腔体内的电机Ⅰ，设置在上腔体内下部的与电机Ⅰ输出轴连接的连接轴Ⅰ和与连接轴Ⅰ连接的十字万向节Ⅰ所组成；

所述的公转机构由设置在顶板上部的电机Ⅱ，设置在上腔体内上部与电机Ⅱ输出轴转动连接的连接轴Ⅱ，与连接轴Ⅱ转动连接的角度调节杆连接，与角度调节杆连接的连接杆，与连接杆连接的连接轴Ⅲ以及与连接轴Ⅲ连接的十字万向节Ⅱ所组成；

所述的主轴的两端设有花键槽，主轴的花键槽一端通过十字万向节Ⅰ与自转机构连接，另一端通过十字万向节Ⅱ与公转机构连接。

2.根据权利要求1所述的用于磁控溅射的转架装置，其特征在于所述的十字万向节Ⅰ和十字万向节Ⅱ的两轴不在同一轴线。

3.根据权利要求1所述的用于磁控溅射的转架装置，其特征在于所述的角度调节杆由角度调节孔、角度调节杆本体和轴套所组成，轴套焊接在角度调节杆上，并通过销轴孔与连接轴Ⅱ连接。

4.根据权利要求1所述的用于磁控溅射的转架装置，其特征在于所述的连接杆一端为阶梯轴，另一端有销轴孔，阶梯轴一端与角度调节杆上的角度调节孔转动相连，连接杆另一端通过销轴和销轴孔与连接轴Ⅲ相连。

5.根据权利要求1所述的用于磁控溅射的转架装置，其特征在于所述工件托盘为中心设有主轴通孔的圆盘，工件托盘的上面设有用于固定工件的圆环状凸台，其圆环状凸台外径与圆筒状工件内径为过盈配合，在工作托盘的下面焊有套筒，所述的套筒中心线与圆盘中心线重合，在套筒上还开有预紧螺丝孔。