[发明专利]一种应用于磁控溅射的新型工件转架装置

说明书

本发明涉及一种用于磁控溅射的转架装置，包括由侧壁、顶板和底板组成的反应腔体，设置在反应腔体内的工作托盘、主轴和工作托盘运动机构，其特征在于在所述的反应腔体内设有基台，其基台将反应腔体分成上腔体和下腔体，所述的工作托盘设置在主轴上，所述的工作托盘运动机构包括自转机构和公转机构。本发明的有益效果是：本发明克服了传统工件转架旋转方式单一的缺点，增加了工件运动的自由度，使工件的每个面都可以被靶材溅射出的粒子均匀覆盖，有效解决了工件棱边涂层不均的问题，增强了涂层效果。

技术领域

本发明属于磁控溅射领域，特别涉及一种应用于磁控溅射内部的新型工件转架装置。

背景技术

随着科学技术的发展，工件表面改性应用于越来越多的工业领域中，这种表面改性的方法大大降低了因零件寿命过低而需要频繁更换的成本，同时也提高了生产效率。

磁控溅射作为工件表面改性中的重要组成部分起到了重要作用。随着磁控溅射的广泛应用，传统磁控溅射腔体内部工件转架转动方式的单一性限制了磁控溅射工艺的进一步发展。由于转动方式的局限性，导致在制备涂层的过程中无法保证工件表面涂层的均匀性和一致性，降低了涂层效果。

发明内容

本发明的目的在于克服现有技术缺陷，提出一种用于磁控溅射的工件转架装置，该工件转架装置能为工件提供更广的溅射角度，从而提高工件涂层的均匀性、一致性，提高使用寿命，增强涂层效果。

本发明是这样实现的。

按照本发明的一种用于磁控溅射的转架装置，包括由侧壁、顶板和底板组成的反应腔体，设置在反应腔体内的工作托盘、主轴和工作托盘运动机构，其特征在于在所述的反应腔体内设有基台，其基台将反应腔体分成上腔体和下腔体，所述的工作托盘设置在主轴上，所述的工作托盘运动机构包括自转机构和公转机构，

所述的自转机构由设置在下腔体内的电机Ⅰ，设置在上腔体内下部的与电机Ⅰ输出轴连接的连接轴Ⅰ和与连接轴Ⅰ连接的十字万向节Ⅰ所组成；

所述的公转机构由设置在顶板上部的电机Ⅱ，设置在上腔体内上部与电机Ⅱ输出轴转动连接的连接轴Ⅱ，与连接轴Ⅱ转动连接的角度调节杆连接，与角度调节杆连接的连接杆，与连接杆连接的连接轴Ⅲ以及与连接轴Ⅲ连接的十字万向节Ⅱ所组成；

所述的主轴的两端设有花键槽，主轴的花键槽一端通过十字万向节Ⅰ与自转机构连接，另一端通过十字万向节Ⅱ与公转机构连接。

所述的十字万向节Ⅰ和十字万向节Ⅱ的两轴不在同一轴线。

所述的角度调节杆由角度调节杆本体、设置在角度调节杆本体上的一个以上的角度调节孔和垂直设置在角度调节杆本体上的轴套所组成，在轴套上设有销轴孔，并通过销轴与连接轴Ⅱ连接。

所述的连接杆一端为阶梯轴，另一端有销轴孔，阶梯轴一端与角度调节杆上的角度调节孔转动相连，连接杆另一端通过销轴和销轴孔与连接轴Ⅲ相连。

所述工件托盘为中心设有主轴通孔的圆盘，工件托盘的上面设有用于固定工件的圆环状凸台，其圆环状凸台外径与圆筒状工件内径为过盈配合，在工作托盘的下面焊有套筒，所述的套筒中心线与圆盘中心线重合，在套筒上还开有预紧螺丝孔。

本发明的有益效果是：

1、本发明的用于磁控溅射的转架装置克服了传统工件转架旋转方式单一的缺点，提供更多的旋转方式，为工件提供更广的溅射角度，从而提高工件涂层的均匀性、一致性，提高使用寿命，增强涂层效果。

2、本发明的新型转架装置增加了工件运动的自由度，使工件的每个面（底面除外）都可以被靶材溅射出的粒子均匀覆盖，此外，有效解决了工件棱边涂层不均的问题。

3、本发明的新型工件转架装置可有效避免工件在公转、自转过程中与器壁的碰撞。