[发明专利]静电卡盘表面形貌的制备方法有效

专利信息
申请号: 201810447179.3 申请日: 2018-05-11
公开(公告)号: CN108711558B 公开(公告)日: 2021-07-23
发明(设计)人: 杨鹏远;侯占杰;王建冲;唐娜娜;韩玮琦;张玉利;黎远成;荣吉平;姜鑫;李金亮 申请(专利权)人: 北京华卓精科科技股份有限公司
主分类号: H01L21/683 分类号: H01L21/683
代理公司: 北京头头知识产权代理有限公司 11729 代理人: 刘锋
地址: 100176 北京市大兴区北京经济*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种静电卡盘表面形貌的制备方法,属于静电卡盘领域。所述静电卡盘表面形貌的制备方法包括:步骤1:在静电卡盘的介电层表面涂覆或者贴合保护膜,所述保护膜包括曝光区域和不曝光区域;步骤2:对所述不曝光区域贴合光刻掩膜板,对所述曝光区域进行曝光、显影和清洗;步骤3:对清洗后的曝光区域进行凸点沉积;步骤4:对凸点沉积后的介电层的不曝光区域进行清洗。本发明不仅可以根据不同需求,制备出与介电层材料不同的一层或者多层凸点涂层,满足静电卡盘多方面性能需求,而且该方法工艺简单,易操作,效率高,制备过程更加环保。
搜索关键词: 静电 卡盘 表面 形貌 制备 方法
【主权项】:
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