[发明专利]一种高功率光纤布拉格光栅刻写用位相掩模片在审
| 申请号： | 201810404554.6 | 申请日： | 2018-04-28 |
| 公开（公告）号： | CN110412670A | 公开（公告）日： | 2019-11-05 |
| 发明（设计）人： | 林磊;蔡光明 | 申请（专利权）人： | 福州高意光学有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18;G03F7/20 |
| 代理公司： | 福州君诚知识产权代理有限公司 35211 | 代理人： | 戴雨君 |
| 地址： | 350000 福建省福州*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种高功率光纤布拉格光栅刻写用位相掩模片，其包括紫外级熔融石英基片，所述的熔融石英基片上具有一对位置相对的光学面，其中一光学面上具有用光刻法制成的微纳增透结构，另一光学面上具有用光刻法制成的微纳衍射分光结构，该方案能够为制作高功率光纤布拉格光栅应用提供高抗激光损伤，无鬼像，高衍射效率和大干涉对比度的深紫外位相掩模片。 | ||
| 搜索关键词： | 布拉格光栅 高功率光纤 掩模片 刻写 熔融石英基片 光刻 分光结构 激光损伤 位置相对 衍射效率 应用提供 增透结构 光学面 高抗 鬼像 衍射 干涉 制作 | ||
【主权项】：
1.一种高功率光纤布拉格光栅刻写用位相掩模片，其特征在于：其包括紫外级熔融石英基片，所述的熔融石英基片上具有一对位置相对的光学面，其中一光学面上具有用光刻法制成的微纳增透结构，另一光学面上具有用光刻法制成的微纳衍射分光结构。
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