[发明专利]一种等离子体刻蚀与沉积设备及方法

摘要

本发明提供一种等离子体刻蚀与沉积设备及方法。本设备及方法刻蚀或者沉积效率较高，刻蚀或沉积过程可控，沉积膜的膜质均匀且无针孔，效果较好；本设备设置有观察窗，可以较为直观的观察刻蚀或者沉积过程；下极板内设置有加热装置，采用热电偶进行加热，对待刻蚀或沉积改性的材料进行加热，以促使反应充分并提高反应速率；设备外壳上设置有朗缪尔探针入口，可以在反应过程中将探针伸入上下极板间的反应区域内。

主权项

1.一种等离子体刻蚀与沉积设备，包括反应室（1），上部主体（2），下部主体（3），上电极，下电极（18），其特征在于：所述上电极包括进气口（8），长杆（11），陶瓷杆（702），陶瓷保护罩（7），上极板（4），所述进气口（8）设置在所述长杆（11）的一端，所述陶瓷杆（702）一端通过陶瓷杆固定螺栓（703）与所述长杆（11）远离进气口（8）的一端连接，所述陶瓷杆（702）的另一端通过陶瓷杆固定螺栓（703）与所述上极板（4）连接，所述陶瓷保护罩（7）设置在所述陶瓷杆（702）外，通过陶瓷保护罩固定螺栓（701）与所述长杆（11）以及所述上极板（4）连接；所述长杆（11）内部中空，所述陶瓷杆（702）内部中空，所述上极板（4）内部中空，所述长杆（11）、陶瓷杆（702）、上极板（4）内部空腔共同构成气体通道（201）；所述上部主体（2）上设置有射频电源（6），所述上部主体（2）上设置有可调节上下极板间距的高度调节装置（12），所述长杆（11）设置有进气口（8）的一端安装在所述高度调节装置（12）上，所述长杆（11）的另一端伸入所述反应室（1）内；所述上部主体（2）与所述反应室（1）通过六角螺栓（101）和六角螺母（102）连接固定；所述上极板（4）上设置有多孔板（401），所述多孔板（401）上设置有通孔II（403），所述多孔板（401）通过六角螺栓III（402）和所述上极板（4）固定连接；所述下部主体（3）与所述反应室（1）通过六角螺栓（101）和六角螺母（102）连接固定，所述下部主体（3）上对称设置有两个抽真空口（9），所述抽真空口（9）通过软管（903）与真空泵（904）连接，所述软管（903）靠近真空泵（904）的一端设置有抽气速率调节装置（902），所述抽气速率调节装置（902）上设置有抽气速率调节旋钮（901）；所述反应室（1）和下部主体（3）的内部设置有下电极（18），所述下电极（18）的顶部设置下极板（5），所述下极板（5）通过导线接地，所述下极板（5）内对称设置有两个热电偶（501）；所述下电极（18）底部设置有下电极盖（19），所述下电极（18）和下电极盖（19）通过六角螺栓II（103）连接固定；所述反应室（1）上设置有反应室开取装置（10），所述反应室开取装置（10）上设置有铰链（22），所述铰链（22）上设置有密封门（13），所述密封门（13）上设置有观察窗（15），所述密封门（13）内设置有橡胶密封圈（20），所述反应室开取装置（10）上设置有锁紧装置（21）。