[发明专利]基板处理设备

摘要

公开了一种基板处理设备，其能够改善在基板上沉积的薄膜的均匀度，并且还能够自由地调整生产率，其中，所述基板处理设备可以包括：用于提供处理空间的处理室；基板支撑体，其可旋转地设置在所述处理空间中，用于支撑至少一个基板；面对所述基板支撑体的室盖，所述室盖用于覆盖所述处理室的上侧；以及，气体分配部分，用于将所述处理空间在空间上分隔为第一和第二反应空间，并且在相应的第一和第二反应空间中引发不同种类的沉积反应，其中，在所述气体分配部分设置在所述室盖中。

主权项

1.一种基板处理设备，包括：处理室，所述处理室用于提供处理空间；基板支撑体，所述基板支撑体可旋转地设置在所述处理空间中，用于支撑至少一个基板；面对所述基板支撑体的室盖，所述室盖用于覆盖所述处理室的上侧；以及，气体分配部分，所述气体分配部分用于将所述处理空间在空间上分隔为第一反应空间和第二反应空间，并且在相应的第一反应空间和第二反应空间中引发不同种类的沉积反应，其中，所述气体分配部分设置在所述室盖中。