[发明专利]一种MPCVD合成设备、控制方法及合成方法

摘要

本发明涉及一种MPCVD合成设备、控制方法及合成方法，该合成设备包括微波发生装置、反应腔和供气装置；其特征在于，还包括微波反射测量装置、温度测量装置、真空测量装置、气压控制装置和控制中心，所述微波发生装置、微波反射测量装置、温度测量装置、真空测量装置、气压控制装置和供气装置分别与控制中心通信连接。本发明通过功率‑气压‑温度‑反射微波的自动匹配并实现动态平衡，可将反应腔体内部的环境稳定在最适合目标产品合成的环境条件，提高目标产品合成速率和合成质量；功率‑气压‑温度‑反射微波的自动匹配，可有效提高操作人员的操作效率，省时省力；有效提高磁控管的使用效率，保障使用安全。

主权项

1.一种MPCVD合成设备，其特征在于：包括微波发生装置、微波传输系统、与微波传输系统连接的反应腔（2）和用于为反应腔提供反应气体的供气装置；用于测量反应腔内目标产品表面温度的温度测量装置、用于测量反应腔内气压的真空测量装置、用于调节反应腔内气压的气压控制装置和控制中心，所述微波发生装置、温度测量装置、真空测量装置、气压控制装置分别与控制中心通信连接；所述控制中心接受、识别各装置反馈来的数据信号，并对数据信号进行分析处理后，向相应装置发出相应指令。