[发明专利]石英以及增加石英抗激光损伤性能的方法有效
| 申请号： | 201810342443.7 | 申请日： | 2018-04-17 |
| 公开（公告）号： | CN108455870B | 公开（公告）日： | 2021-06-08 |
| 发明（设计）人： | 李昌朋;李青芝;石兆华;邵婷;夏汉定;孙来喜;叶鑫;吴卫东;蒋晓东 | 申请（专利权）人： | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 |
| 主分类号： | C03C15/00 | 分类号： | C03C15/00;C03C17/245 |
| 代理公司： | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 | 代理人： | 吴开磊 |
| 地址： | 621000 四*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明涉及光学材料领域，具体而言，涉及一种石英以及增加石英抗激光损伤性能的方法。增加石英抗激光损伤性能的方法，包括以下步骤：对石英基片进行刻蚀处理后在所述石英基片上沉积二氧化硅；在沉积所述二氧化硅的同时，对沉积的所述二氧化硅进行熔融。其通过刻蚀能够将较小的微裂纹完全去除，同时能将较大的微裂纹完全暴露并钝化裂纹尖端，便于后续熔覆过程对微裂纹的填补和修复。而后利用熔融沉积的二氧化硅的流动性修复填补裂纹，从而提高熔石英的机械性能并最终提升其抗激光损伤性能。同时，大面积均匀的沉积和熔覆玻璃涂层，使得熔石英整个表面具有较好的面型。 | ||
| 搜索关键词： | 石英 以及 增加 激光 损伤 性能 方法 | ||
【主权项】：
1.一种增加石英抗激光损伤性能的方法，其特征在于，包括以下步骤：对石英基片进行刻蚀处理后在所述石英基片上沉积二氧化硅；在沉积所述二氧化硅的同时，对沉积的所述二氧化硅进行熔融。
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