[发明专利]微流控芯片的加工方法有效

专利信息
申请号: 201810335107.X 申请日: 2018-04-15
公开(公告)号: CN108452855B 公开(公告)日: 2021-02-26
发明(设计)人: 王博;朱修锐;王勇斗;吴大林;苏辰宇;陈辉 申请(专利权)人: 新羿制造科技(北京)有限公司
主分类号: B01L3/00 分类号: B01L3/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 102200 北京市昌平*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供一种微流控芯片的加工方法,它首先利用精密光刻工艺,制备出高精度基底模具,接着,使用深刻蚀工艺,形成基底模具。在基底模具上以覆盖金属层,利用精密电铸工艺,加工出高精度金属模具。然后利用一体式精密注塑技术,得到与光刻胶模具凹凸性一致的微流道芯片。本发明的方法首次将基于光刻、刻蚀和电铸的微加工工艺,和工业上使用的注塑工艺相结合,使用精密模具进行不同流道高度的热塑材料微流控芯片的加工,实现了高产能和低成本的微流控芯片批量化加工。
搜索关键词: 微流控 芯片 加工 方法
【主权项】:
1.一种高度尺寸在2‑200微米之间的微流控芯片的加工方法,所述方法包括以下步骤:步骤1:利用光刻工艺,将绘制于掩模上的微流控芯片设计图案,以图形化的方式转移到模具基底上;步骤2:使用深刻蚀工艺对基底上没有被光刻胶保护的部分进行刻蚀,形成基底模具;步骤3:在所述基底模具上覆盖金属层,利用精密电铸工艺,加工出金属模具;和步骤4:在所述金属模具上,利用一体式注塑技术,注塑得到微流控芯片。
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