[发明专利]包含带电磨料的抛光组合物有效

专利信息
申请号: 201810329068.2 申请日: 2018-04-13
公开(公告)号: CN109609035B 公开(公告)日: 2022-11-29
发明(设计)人: A·米什拉 申请(专利权)人: 富士胶片电子材料美国有限公司
主分类号: H01L21/3105 分类号: H01L21/3105;C09G1/02;H01L21/321
代理公司: 北京博思佳知识产权代理有限公司 11415 代理人: 林祥
地址: 美国罗*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 本公开提供了相比于其他介电膜可选择性地且优选地抛光某些介电膜的抛光组合物。基于要去除及要保留的目标介电膜,这些抛光组合物包括阳离子或阴离子磨料。所述抛光组合物利用新颖的基于静电荷的设计,其中,基于磨料的电荷及其与介电膜上的电荷的静电相互作用(吸引力或排斥力),可实现多种材料去除速率和抛光选择性。
搜索关键词: 包含 带电 磨料 抛光 组合
【主权项】:
1.一种抛光组合物,包括a)阳离子磨料,所述阳离子磨料包括氧化铝、二氧化硅、二氧化钛、氧化锆、其共形成产物或其混合物;b)酸或碱;和c)水;其中,所述抛光组合物具有约2至约7的pH并且基本上不含卤化盐。
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