[发明专利]掩模板框架及其制作方法、蒸镀掩模板组件及蒸镀设备有效
| 申请号： | 201810266417.0 | 申请日： | 2018-03-28 |
| 公开（公告）号： | CN108468018B | 公开（公告）日： | 2019-10-15 |
| 发明（设计）人： | 戚海平;黄俊杰;王震 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24;C23C14/12 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 许静;刘伟 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种掩模板框架及其制作方法、蒸镀掩模板组件及蒸镀设备，所述掩模板框架包括框架主体，所述框架主体包括多个边框，且框架主体包括相背设置的第一表面和第二表面，每一边框的第一表面上、沿该边框的延伸方向间隔设置有多个沟槽，所述沟槽由所述第一表面向所述第二表面所在方向凹陷形成，并在垂直于所述第一表面的方向上具有开槽深度；其中每一所述边框上的多个沟槽中，位于该边框的中部位置处的所述沟槽的所述开槽深度小于位于该边框的两端位置处的所述沟槽的所述开槽深度。本发明的掩模板框架及其制作方法、蒸镀掩模板组件及蒸镀设备，能够改善由于掩模板框架变形而导致的掩模板不平坦现象，改善混色、均一性差等不良，提升产品良率。 | ||
| 搜索关键词： | 边框 掩模板框架 第一表面 掩模板组件 框架主体 蒸镀设备 开槽 蒸镀 第二表面 制作 产品良率 方向间隔 两端位置 相背设置 中部位置 均一性 掩模板 凹陷 混色 变形 垂直 平坦 延伸 | ||
【主权项】：
1.一种掩模板框架，其特征在于，包括一框架主体，所述框架主体包括多个边框，且所述框架主体包括相背设置的第一表面和第二表面，每一所述边框的第一表面上、沿该边框的延伸方向间隔设置有多个沟槽，所述沟槽由所述第一表面向所述第二表面所在方向凹陷形成，并在垂直于所述第一表面的方向上具有开槽深度；其中每一所述边框上的多个沟槽中，位于该边框的中部位置处的所述沟槽的所述开槽深度小于位于该边框的两端位置处的所述沟槽的所述开槽深度；每一所述边框上的多个沟槽的所述开槽深度，从该边框的中部位置向该边框的两端位置逐渐增大。
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