[发明专利]掩模板框架及其制作方法、蒸镀掩模板组件及蒸镀设备

说明书

本发明提供一种掩模板框架及其制作方法、蒸镀掩模板组件及蒸镀设备，所述掩模板框架包括框架主体，所述框架主体包括多个边框，且框架主体包括相背设置的第一表面和第二表面，每一边框的第一表面上、沿该边框的延伸方向间隔设置有多个沟槽，所述沟槽由所述第一表面向所述第二表面所在方向凹陷形成，并在垂直于所述第一表面的方向上具有开槽深度；其中每一所述边框上的多个沟槽中，位于该边框的中部位置处的所述沟槽的所述开槽深度小于位于该边框的两端位置处的所述沟槽的所述开槽深度。本发明的掩模板框架及其制作方法、蒸镀掩模板组件及蒸镀设备，能够改善由于掩模板框架变形而导致的掩模板不平坦现象，改善混色、均一性差等不良，提升产品良率。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其是涉及一种掩模板框架及其制作方法、蒸镀掩模板组件及蒸镀设备。

背景技术

OLED(Organic Light Emission Display，有机电致发光二极管)显示技术凭借其各方面优点，而逐渐取代LCD(Liquid Crystal Display，液晶显示器)显示，OLED显示技术的发展迎来了黄金时代，各大OLED显示器制造商不断推出各种颠覆性的产品来吸引人们的眼球。

在OLED(Organic Light Emission Display，有机电致发光二极管)制造技术中，真空蒸镀用的掩模板是至关重要的部件，掩模板的质量直接影响着生产制造成本和产品质量。OLED蒸镀过程用的掩模板主要包括精细金属掩模板(Fine Metal Mask，简称：FMM)，精细金属掩模板FMM用于蒸镀发光层材料，在蒸镀基板上形成像素图形；在精细金属掩模板的下方设置辅助支撑掩模板，辅助支撑掩模板主要包括纵横交错设置的支撑条(HowlingSheet)和遮挡条(Cover Sheet)，用于支撑精细金属掩模板FMM以及限定蒸镀基板上的显示区域的形状，精细金属掩模板FMM和支撑掩模板张四边焊接在掩模板框架上。

由于支撑条和遮挡条对其下方的掩模板框架内拉力等作用，掩模板框架会发生形变，进而导致掩模板框架上的各支撑条、遮挡条及FMM的下沉量不同，掩模板框架上的支撑条、遮挡条及FMM，整体呈中间低、两边高的下弯曲形态。随着PPI(像素数目)的提高，由于掩模板下弯曲，掩模板与蒸镀基板之间，会引起的对位偏移或者阴影(shadow)增大的问题，都会极大地引起产品显示混色等不良，而且将影响整个批次的产品良率。

发明内容

本发明的目的在于提供一种掩模板框架及其制作方法、蒸镀掩模板组件及蒸镀设备，能够改善由于掩模板框架变形而导致的掩模板不平坦现象，改善混色、均一性差等不良，提升产品良率。

本发明所提供的技术方案如下：

第一方面，本发明实施例提供一种掩模板框架，包括一框架主体，所述框架主体包括多个边框，且所述框架主体包括相背设置的第一表面和第二表面，每一所述边框的第一表面上、沿该边框的延伸方向间隔设置有多个沟槽，所述沟槽由所述第一表面向所述第二表面所在方向凹陷形成，并在垂直于所述第一表面的方向上具有开槽深度；其中每一所述边框上的多个沟槽中，位于该边框的中部位置处的所述沟槽的所述开槽深度小于位于该边框的两端位置处的所述沟槽的所述开槽深度。

可选的，每一所述边框上的多个沟槽的所述开槽深度，从该边框的中部位置向该边框的两端位置逐渐增大。

可选的，每一所述边框上的多个沟槽中，相邻两个所述沟槽在该边框的延伸方向上的间距相等，且相邻两个所述沟槽之间的所述开槽深度的差值为一预定值。

可选的，每一所述边框上的多个沟槽中，相邻两个所述沟槽之间的所述开槽深度的差值的取值范围为1～10微米。

可选的，每一所述边框上的多个沟槽在所述边框上关于一对称轴进行对称分布，所述对称轴经过该边框的两端之间的中心点、且与所述第一表面相垂直。