[发明专利]掩模板框架及其制作方法、蒸镀掩模板组件及蒸镀设备

权利要求书

1.一种掩模板框架，其特征在于，包括一框架主体，所述框架主体包括多个边框，且所述框架主体包括相背设置的第一表面和第二表面，每一所述边框的第一表面上、沿该边框的延伸方向间隔设置有多个沟槽，所述沟槽由所述第一表面向所述第二表面所在方向凹陷形成，并在垂直于所述第一表面的方向上具有开槽深度；其中每一所述边框上的多个沟槽中，位于该边框的中部位置处的所述沟槽的所述开槽深度小于位于该边框的两端位置处的所述沟槽的所述开槽深度；每一所述边框上的多个沟槽的所述开槽深度，从该边框的中部位置向该边框的两端位置逐渐增大。

2.根据权利要求1所述的掩模板框架，其特征在于，每一所述边框上的多个沟槽中，相邻两个所述沟槽在该边框的延伸方向上的间距相等，且相邻两个所述沟槽之间的所述开槽深度的差值为一预定值。

3.根据权利要求1所述的掩模板框架，其特征在于，每一所述边框上的多个沟槽中，相邻两个所述沟槽之间的所述开槽深度的差值的取值范围为1～10微米。

4.根据权利要求1所述的掩模板框架，其特征在于，每一所述边框上的多个沟槽在所述边框上关于一对称轴进行对称分布，所述对称轴经过该边框的两端之间的中心点、且与所述第一表面相垂直。

5.根据权利要求1所述的掩模板框架，其特征在于，相对设置的一对所述边框中，其中一个所述边框上的多个所述沟槽与另一个所述边框上的多个所述沟槽一一对应地设置，且其中一个所述边框上的所述沟槽与另一个所述边框上的、与该沟槽所对应的另一所述沟槽的所述开槽深度相同。

6.根据权利要求1所述的掩模板框架，其特征在于，任意两个所述沟槽之间的所述开槽深度的差值小于或等于100微米。

7.一种蒸镀掩模板组件，其特征在于，包括：

第一掩模板，所述第一掩模板包括纵横交错设置的多个支撑条和多个遮挡条；

叠放于所述第一掩模板之上的第二掩模板，所述第二掩模板为精细金属掩模板FMM；

以及，如权利要求1至6任一项所述的掩模板框架；其中，

所述支撑条的两端分别焊接于所述掩模板框架中相对设置的一对所述边框的所述沟槽内；

所述遮挡条的两端分别焊接于所述掩模板框架中相对设置的另一对所述边框的所述沟槽内；

所述第二掩模板的四周边缘焊接在所述掩模板框架的所述第一表面上。

8.根据权利要求7所述的蒸镀掩模板组件，其特征在于，所述掩模板框架中，相对设置的一对所述边框上的所述沟槽的槽底处于同一平面内，以使多个所述遮挡条处于同一平面内，以及多个所述支撑条处于同一平面内。

9.一种蒸镀设备，其特征在于，包括如权利要求7或8所述的蒸镀掩模板组件。

10.一种掩模板框架的制作方法，其特征在于，用于制作如权利要求1至6任一项所述的掩模板框架，所述方法包括：

获取每一所述沟槽的开槽深度补偿值△h，所述开槽深度补偿值△h用于补偿掩模板在每一所述沟槽所对应位置处的下沉量h，以使所述掩模板中的多个遮挡条处于同一平面，以及多个所述支撑条处于同一平面；

根据所述开槽深度补偿值△h，确定每一所述沟槽的开槽深度值H；

提供一框架主体，并根据所述开槽深度值H在所述框架主体上开设所述沟槽。

11.根据权利要求10所述的方法，其特征在于，所述获取每一所述沟槽的开槽深度补偿值△h，具体包括：

提供一蒸镀掩模板样品，所述蒸镀掩模板样品包括一初始掩模板框架、初始辅助掩模板及初始精细掩模板FMM，所述初始辅助掩模板包括纵横交错设置的多个初始支撑条和多个初始遮挡条；

检测所述蒸镀掩模板样品中，每一所述初始支撑条及每一所述初始遮挡条的下沉量h；

根据所述下沉量h，获取每一所述初始支撑条及每一所述初始遮挡条所对应的所述开槽深度补偿量△h；

根据所述开槽深度补偿值△h，得到所述沟槽的开槽深度值H。

12.根据权利要求11所述的方法，其特征在于，所述检测所述蒸镀掩模板样品中，每一所述初始支撑条及每一初始遮光条的下沉量h，具体包括：

采用激光检测器检测所述下沉量h，所述激光检测器包括用于发射水平激光束的激光发射部、及用于在接收激光时产生感应信号的激光接收部，其中，将所述蒸镀掩模板样品水平放置，

从每一所述初始支撑条的一端向另一端发射水平激光束，并沿竖直方向移动所述激光检测器；根据所述激光接收部的感应信号变化，获取每一所述初始支撑条的当前高度值；将所述初始支撑条的当前高度值与预设高度值比较，得到每一所述初始支撑条的下沉量；

从每一所述初始遮挡条的一端向另一端发射水平激光束，并沿竖直方向移动所述激光检测器；根据所述激光接收部的感应信号变化，获取每一所述初始遮挡条的当前高度值；将所述初始遮挡条的当前高度值与预设高度值比较，得到每一所述初始遮挡条的下沉量。