[发明专利]一种真空镀膜设备和方法在审
申请号: | 201810257051.0 | 申请日: | 2018-03-27 |
公开(公告)号: | CN108374159A | 公开(公告)日: | 2018-08-07 |
发明(设计)人: | 王俊明 | 申请(专利权)人: | 北京航天微电科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/56 | 分类号: | C23C14/56;C23C14/54;C23C14/50 |
代理公司: | 北京轻创知识产权代理有限公司 11212 | 代理人: | 杨立 |
地址: | 100854*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明实施例涉及一种真空镀膜设备和方法,属于材料表面处理技术领域。其中,该设备包括:包括坩埚、镀锅、行星架,且设备还包括:承片架组件、动力组件和控制器;其中,承片架组件包括:承片架本体,固定件,以及通过固定件与承片架本体固定转动连接的挡板;挡板用于:遮挡承片架本体上的n个待镀膜产品,其中,0<n<m,m为承片架本体上的待镀膜产品的总数量;动力组件用于:当接收到控制器发送的控制信号时,根据控制信号控制挡板进行转动。通过本实施例提供的技术方案,实现了在真空状态,不打开舱门的情况下,对不同膜厚的产品或不同类型的产品进行镀膜处理,节约了成本,节省了时间,提高了效率的技术效果。 | ||
搜索关键词: | 承片架 真空镀膜设备 挡板 动力组件 镀膜产品 控制信号 控制器 固定件 材料表面处理技术 镀膜处理 技术效果 控制挡板 真空状态 转动连接 组件包括 行星架 舱门 镀锅 膜厚 坩埚 遮挡 转动 发送 节约 | ||
【主权项】:
1.一种真空镀膜设备,所述设备包括坩埚、镀锅、行星架,其特征在于,所述设备还包括:承片架组件、动力组件和控制器;其中,所述承片架组件包括:承片架本体,固定件,以及通过所述固定件与所述承片架本体转动连接的挡板;所述挡板用于:遮挡所述承片架本体上的n个待镀膜产品,其中,0<n<m,m为所述承片架本体上的待镀膜产品的总数量;所述动力组件用于:当接收到所述控制器发送的控制信号时,根据所述控制信号控制所述挡板进行转动。
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