[发明专利]一种真空镀膜设备和方法

说明书

本发明实施例涉及一种真空镀膜设备和方法，属于材料表面处理技术领域。其中，该设备包括：包括坩埚、镀锅、行星架，且设备还包括：承片架组件、动力组件和控制器；其中，承片架组件包括：承片架本体，固定件，以及通过固定件与承片架本体固定转动连接的挡板；挡板用于：遮挡承片架本体上的n个待镀膜产品，其中，0＜n＜m，m为承片架本体上的待镀膜产品的总数量；动力组件用于：当接收到控制器发送的控制信号时，根据控制信号控制挡板进行转动。通过本实施例提供的技术方案，实现了在真空状态，不打开舱门的情况下，对不同膜厚的产品或不同类型的产品进行镀膜处理，节约了成本，节省了时间，提高了效率的技术效果。

技术领域

本发明实施例涉及材料表面处理技术领域，尤其涉及一种真空镀膜设备和方法。

背景技术

真空镀膜能在金属、半导体、绝缘体、塑料、纸张、织物等表面上沉积金属、半导体、绝缘体、不同成分比的合金、化合物及部分有机聚合物等薄膜，其应用范围极广。

在现有技术中，通过将同一批待镀膜产品放入真空镀膜设备，由真空镀膜设备进行统一镀膜。

发明人在实现本发明的过程中，发现存在以下问题：

无法在真空状态，不打开舱门的情况下，对不同膜厚的产品或不同类型的产品进行镀膜处理。

发明内容

为解决上述技术问题，本发明实施例提供了一种真空镀膜设备和方法。

根据本发明实施例的一个方面，本发明实施例提供了一种真空镀膜设备，所述设备包括坩埚、镀锅、行星架，其特征在于，所述设备还包括：承片架组件、动力组件和控制器；其中，

所述承片架组件包括：承片架本体，固定件，以及通过所述固定件与所述承片架本体转动连接的挡板；

所述挡板用于：遮挡所述承片架本体上的n个待镀膜产品，其中，0＜n＜m，m为所述承片架本体上的待镀膜产品的总数量；

所述动力组件用于：当接收到控制器发送的控制信号时，根据所述控制信号控制所述挡板进行转动。

通过本实施例提供的：通过固定件将挡板与承片架本体连接(在控制信号的作用下，挡板可进行转动)，挡板可遮挡承片架本体上的n个待镀膜产品的技术方案，避免了现有技术中在真空状态，不打开舱门的情况下，无法对同膜厚的产品对应的待镀膜产品，或无法对不同类型的产品对应的待镀膜产品进行镀膜处理的技术弊端，从而实现了结构简单的真空镀膜设备，节约了成本，节省了时间，且提高了效率的技术效果。

根据本发明实施例的另一个方面，本发明实施例提供了一种真空镀膜方法，所述方法基于上述设备，其中，所述方法包括：

对真空室进行预处理；

对所述真空室内的第一待镀膜产品进行镀膜，此时，所述挡板位于第二待镀膜产品的正上方；

当对所述第一待镀膜产品镀膜完成，得到第一镀膜产品后，则通过所述控制器和所述动力组件控制所述挡板进行转动；

当所述挡板位于所述第一镀膜产品的正上方时，则对所述第二待镀膜产品进行镀膜。

通过本实施例提供的：当对第一待镀膜产品镀膜时，挡板位于第二待镀膜产品的正上方，当完成对第一待镀膜产品的镀膜，得到第一镀膜产品，则通过控制器和动力组件控制挡板转动，直至转动到第一镀膜产品的正上方，对第二待镀膜产品进行镀膜的技术方案，避免了现有技术中，如果需要对不同膜厚的待镀膜产品进行镀膜，则需要先将某一种膜厚的待镀膜产品完成镀膜的工作后，打开真空室，放入另一种膜厚的待镀膜产品，再进行真空室的预处理等操作，才能实现对另一种膜厚的待镀膜产品的镀膜处理的技术弊端，从而实现了节约镀膜时间，提高镀膜效率的技术效果。

附图说明

图1为本发明实施例提供的一种真空镀膜设备的结构示意图；