[发明专利]一种真空镀膜设备和方法

权利要求书

1.一种真空镀膜设备，所述设备包括坩埚、镀锅、行星架，其特征在于，所述设备还包括：承片架组件、动力组件和控制器；其中，

所述承片架组件包括：承片架本体，固定件，以及通过所述固定件与所述承片架本体转动连接的挡板；

所述挡板用于：遮挡所述承片架本体上的n个待镀膜产品，其中，0＜n＜m，m为所述承片架本体上的待镀膜产品的总数量；

所述动力组件用于：当接收到所述控制器发送的控制信号时，根据所述控制信号控制所述挡板进行转动。

2.根据权利要求1所述的一种真空镀膜设备，其特征在于，所述固定件还与所述动力组件连接，所述动力组件具体用于：当接收到所述控制器发送的所述控制信号时，根据所述控制信号控制所述挡板以所述固定件为中心进行转动。

3.根据权利要求1所述的一种真空镀膜设备，其特征在于，所述控制器包括：控制器本体和无线传输组件；其中，

所述无线传输组件用于：在所述控制器本体的控制下，将接收到的所述控制信号传输至所述动力组件。

4.根据权利要求3所述的一种真空镀膜设备，其特征在于，所述动力组件包括：无线接收子组件和电机，其中，

所述无线接收子组件用于：接收所述无线传输组件传输的所述控制信号；

所述电机用于：根据所述控制信号带动所述挡板进行转动。

5.根据权利要求1-4中任一项所述的一种真空镀膜设备，其特征在于，

所述固定件为螺栓配件。

6.根据权利要求5所述的一种真空镀膜设备，其特征在于，

所述螺栓配件设置在所述承片架本体的中轴线上。

7.一种真空镀膜方法，其特征在于，所述方法基于权利要求1-6中任一项所述的设备，所述方法包括：

对真空室进行预处理；

对所述真空室内的第一待镀膜产品进行镀膜，此时，所述挡板位于第二待镀膜产品的正上方；

当对所述第一待镀膜产品镀膜完成，得到第一镀膜产品后，则通过所述控制器和所述动力组件控制所述挡板进行转动；

当所述挡板位于所述第一镀膜产品的正上方时，则对所述第二待镀膜产品进行镀膜。

8.根据权利要求7所述的一种真空镀膜方法，其特征在于，所述对真空室进行预处理，具体包括：

对所述真空室进行首次抽真空，并在真空度达到第一真空阈值时，进行辉光放电，以便对真空室进行清洗；

对所述真空室进行二次抽真空，并在真空度达到第二真空阈值时，进行加热处理；

其中，所述第一真空阈值小于所述第二真空阈值。

9.根据权利要求7或8所述的一种真空镀膜方法，其特征在于，通过所述控制器和所述动力组件控制所述挡板进行转动，具体包括：

通过所述控制器向所述动力组件发送控制信号；

通过所述动力组件控制所述挡板以所述固定件为中心进行转动；

当所述挡板转动到所述第一镀膜产品的正上方时，则通过所述控制器和所述动力组件控制所述挡板停止转动。

10.根据权利要求9所述的一种真空镀膜方法，其特征在于，当所述控制器包括控制器本体和无线传输组件，且，所述动力组件包括无线接收子组件和电机时，则所述控制器和所述动力组件控制所述挡板进行转动，具体包括：

在所述控制器本体的控制下，所述无线传输组件将接收到的所述控制信号传输至所述无线接收子组件；

所述电机在所述控制信号的控制下开始转动，以便控制所述挡板以所述固定件为中心进行转动。