[发明专利]一种多量子阱发光二极管及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201810249953.X 申请日: 2018-03-26
公开(公告)号: CN108365064B 公开(公告)日: 2019-05-24
发明(设计)人: 郭秀丽 申请(专利权)人: 郭秀丽
主分类号: H01L33/06 分类号: H01L33/06;H01L33/14;H01L33/32;H01L33/46;H01L33/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 300280 天津市滨海新区中新天津生*** 国省代码: 天津;12
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 本申请提供了一种多量子阱发光二极管及其制备方法,多量子阱有源层包括由下至上依次生长的多个周期的阱层和垒层交替叠置,其中所述阱层由InGaN材料形成,垒层进一步包括第一GaN层、P型AlGaN层、第二GaN层构成的周期结构,第1‑4层垒层包括一个上述周期结构,第5‑8层垒层包括两个上述周期结构,第9至最后的垒层包括三个上述周期结构,本发明提供的垒层结构有效地降低电子溢出,提高空穴注入及传输效率,避免生长缺陷,有效地提高量子阱量子效率,从而提高发光二极管发光效率。
搜索关键词: 垒层 周期结构 发光二极管 多量子阱 有效地 阱层 制备 多量子阱有源层 空穴 材料形成 传输效率 发光效率 交替叠置 量子效率 生长缺陷 量子阱 溢出 生长 申请
【主权项】:
1.一种多量子阱发光二极管,所述多量子阱发光二极管包括:衬底,以及依次设置在衬底上的反射层、AlN缓冲层、GaN缓冲层、非掺杂GaN层、N型GaN层、多量子阱有源层、电子阻挡层、P型GaN层;其特征在于,依次刻蚀所述P型GaN层、所述电子阻挡层、所述多量子阱有源层至所述N型GaN层,形成台面结构,P电极和N电极分别设置在所述P型GaN层和所述N型GaN层上;多量子阱有源层包括由下至上依次生长的多个周期的阱层和垒层交替叠置,其中所述阱层由InGaN材料形成,所述垒层由第一GaN层、P型AlGaN层、第二GaN层构成的周期结构叠置构成,所述多量子阱有源层包括10‑15个周期的所述阱层和所述垒层,其中第1‑4层所述垒层包括一个由所述第一GaN层、P型AlGaN层、第二GaN层构成的周期结构,第5‑8层所述垒层包括两个由所述第一GaN层、P型AlGaN层、第二GaN层构成的周期结构,第9至最后的所述垒层包括三个由所述第一GaN层、P型AlGaN层、第二GaN层构成的周期结构。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于郭秀丽,未经郭秀丽许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810249953.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top