[发明专利]一种关于硅片的自动清洗烘干设备

摘要

本发明公开了一种关于硅片的自动清洗烘干设备，涉及电子设备领域，包括设备主体，所述设备主体包括烘干间和清洗间，所述烘干间位于清洗间的上方，所述设备主体的上方设置有气压缸，所述气压缸的伸缩杆端部设置有内部中空的长方体状放置箱；所述放置箱的一侧面设置有超声波发生器，其相邻的侧面设置有开口，所述放置箱的内部平行设置有多层放置架，所述放置架内部中空，其一端设置有开口，另一端设置有挡板，所述挡板中部活动设置有抽块，解决了现有技术中的硅片清洗时黏在一起使清洗不够彻底，且取出时易损坏硅片的技术问题。

主权项

1.一种关于硅片的自动清洗烘干设备，其特征在于，包括设备主体，所述设备主体包括烘干间(1)和清洗间(2)，所述烘干间(1)位于清洗间(2)的上方，所述烘干间(1)和清洗间(2)的上方均设置有开口(11)，所述烘干间(1)的两侧面对称设置有出风机(3)和吸风机(4)，所述清洗机的两侧面对称设置有出水装置(5)和汲水装置(6)，所述设备主体的上方设置有气压缸(7)，所述气压缸(7)的伸缩杆(8)端部设置有内部中空的长方体状放置箱(9)；所述放置箱(9)的一侧面设置有超声波发生器(10)，其相邻的侧面设置有开口(11)，所述放置箱(9)的内部平行设置有多层放置架(12)，所述放置架(12)内部中空，其一端设置有开口(11)，另一端设置有挡板(13)，所述挡板(13)中部活动设置有抽块(14)。