[发明专利]清洗用组合物及处理方法在审
| 申请号： | 201810183847.6 | 申请日： | 2018-03-06 |
| 公开（公告）号： | CN108728253A | 公开（公告）日： | 2018-11-02 |
| 发明（设计）人： | 亀井康孝;石井寛之;水野光 | 申请（专利权）人： | JSR株式会社 |
| 主分类号： | C11D1/37 | 分类号： | C11D1/37;C11D3/04;C11D3/10;C11D3/37;C11D3/33;C11D3/30;C11D3/60;B08B3/08 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 彭雪瑞;臧建明 |
| 地址： | 日本东京港*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种清洗用组合物及使用其的被处理体的处理方法，所述清洗用组合物在为了对被处理体进行加工等处理而经由固定层将被处理体固定于支撑体的方法中，可有效地去除自被处理体剥离支撑体后的被处理体的表面的来源于固定层的残渣等污染。本发明的清洗用组合物：含有钾及钠，且用以对被处理体的自支撑体剥离的面进行清洗，所述清洗用组合物中，当将所述钾的含量设为MK ppm、将所述钠的含量设为MNa ppm时，MK/MNa＝5×103～1×105。 | ||
| 搜索关键词： | 被处理体 清洗 固定层 支撑体 剥离 自支撑体 有效地 去除 加工 污染 | ||
【主权项】：
1.一种清洗用组合物，其特征在于：含有钾及钠，且用以对被处理体的自支撑体剥离的面进行清洗并经浓缩，所述清洗用组合物中，当将所述钾的含量设为MKppm、将所述钠的含量设为MNappm时，MK/MNa＝5×103～1×105。
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