[发明专利]微波等离子反应装置以及微波等离子反应系统在审

专利信息
申请号: 201810181821.8 申请日: 2018-03-06
公开(公告)号: CN110230037A 公开(公告)日: 2019-09-13
发明(设计)人: 丁召民 申请(专利权)人: 丁召民
主分类号: C23C16/27 分类号: C23C16/27;C23C16/517
代理公司: 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 代理人: 杨勋
地址: 276800 山东省日照市东*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 发明提供的一种微波等离子反应装置以及微波等离子反应系统,涉及金刚石制造技术领域,包括装置腔体;装置腔体包括上腔体和下腔体,上腔体设置在下腔体的上部;装置腔体上设置有进气口和至少一个出气口;上腔体内设置有第一微波反射体和第二微波反射体;第一微波反射体设置在上腔体的顶部,第二微波反射体设置在第一微波反射体的内部;下腔体的底部设置有天线外导体和天线内导体;天线内导体设置在天线外导体的内部;天线内导体的顶部形成有沉积台,沉积台上设置有基片,基片上设置有等离子体。在上述技术方案中,该微波等离子反应装置在用来制造金刚石材料的时候,可以提高装置的运行能力,在高功率条件下进行高品质金刚石材料的合成。
搜索关键词: 微波等离子 微波反射体 天线内导体 反应装置 上腔体 装置腔 金刚石材料 天线外导体 反应系统 下腔体 进气口 等离子体 金刚石制造 提高装置 运行能力 沉积台 出气口 高功率 高品质 腔体 上腔 沉积 合成 体内 制造
【主权项】:
1.一种微波等离子反应装置,其特征在于,包括装置腔体;所述装置腔体包括上腔体和下腔体,所述上腔体设置在所述下腔体的上部;所述装置腔体上设置有进气口和至少一个出气口;所述上腔体内设置有第一微波反射体和第二微波反射体;所述第一微波反射体设置在所述上腔体的顶部,所述第二微波反射体设置在所述第一微波反射体的内部;所述下腔体的底部设置有天线外导体和天线内导体;所述天线内导体设置在所述天线外导体的内部;所述天线内导体的顶部形成有沉积台,所述沉积台上设置有基片,所述基片上设置有等离子体。
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