[发明专利]一种新型氧化镓基PIN结构紫外光电探测器及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201810170840.0 申请日: 2018-03-01
公开(公告)号: CN108376716A 公开(公告)日: 2018-08-07
发明(设计)人: 孙月静 申请(专利权)人: 无锡华亿投资有限公司;孙月静
主分类号: H01L31/0352 分类号: H01L31/0352;H01L31/105;H01L31/18
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 214000 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种新型氧化镓(Ga2O3)基PIN结构紫外光电探测器及其制备方法。该紫外光电探测器的结构包括:由下至上依次设置的衬底(101)、缓冲层(102)、n型Ga2O3层(103)、非掺杂i型NiO/TiO2超晶格吸收层(104)、p型Ga2O3层(105)、在n型Ga2O3层(103)上引出的n型欧姆电极(107),在p型Ga2O3层(106)上引出的p型欧姆电极(106)。本发明提供的采用多周期非掺杂i型NiO/TiO2超晶格作为吸收层的结构,能够有效解决紫外光电探测器中由于电子和空穴的离化系数相近而导致的紫外探测器不灵敏,有助于提高探测器对紫外信号的响应度和稳定性。本发明提供的一种结构新颖、灵敏度高,特别适用于深紫外探测的紫外光电探测器。
搜索关键词: 紫外光电探测器 超晶格 非掺杂 吸收层 氧化镓 制备 空穴 紫外探测器 依次设置 有效解决 紫外探测 紫外信号 灵敏度 多周期 缓冲层 响应度 探测器 衬底 离化 灵敏
【主权项】:
1.一种新型氧化镓基PIN结构紫外光电探测器,其特征在于:由下至上依次设置的衬底(101)、缓冲层(102)、n型Ga2O3层(103)、非掺杂i型NiO/TiO2超晶格吸收层(104)、p型Ga2O3层(105)、在n型Ga2O3层(103)上引出的n型欧姆电极(107),在p型Ga2O3层(105)上引出的p型欧姆电极(106)。
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